電子ビームマスク描画装置の次世代装置開発リーダー/在宅週２ 社名非公開
| 企業名 | 社名非公開 |
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| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します |
| 職種 | 電子ビームマスク描画装置の次世代装置開発リーダー/在宅週２ |
| 業種 | 精密機器業界の機械・機構設計（機械） |
| ポイント | 【パソナキャリア経由での入社実績あり】パソナキャリアがおすすめする求人案件です。こちらの求人以外にも非公開求人も多数保有しておりますので、転職をお考えの方は、是非エントリーください。 |
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正社員
完全週休二日制年間休日120日以上英語を使う仕事フレックス勤務
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募集要項
| 仕事内容 |
【ミッション】電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをお任せします。 【業務内容】 電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。 上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。 海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。 ・次々世代描画装置のシステム・要素開発 次々世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通して装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。 ※他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。また次々世代装置に必要なキーパーツの要素開発を先行して行うための企画検討を行う業務も兼ねます。 ・次世代描画装置におけるシステム・要素開発 技術ロードマップから直近必要な次世代描画装置のシステム設計仕様をまとめ、他部署に要求仕様を提案し、開発の進捗管理、開発に必要な設備提案、開発されたシステムが仕様を満たしているか評価・検討して他部署やプロジェクトそのものをまとめあげるプロジェクトリーダー／マネージャー業務となります。 次世代装置を顧客や学会発表でプレゼンし、次世代装置に対するVOCをキャッチし、社内にフィードバックして装置性能を早期に向上させるミッションも重要な業務となります。 ※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。 【採用背景】 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。 従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。 こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。 【充実の研修・育成制度】 OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。 各種研修や部門の中で… |
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| 求める人材 | 【必須要件】 ・履歴書に写真添付必須です。 ・半導体製造装置のシステム開発経験をお持ちの方 ※特に電子ビームやレーザ等による転写や検査装置開発の経験者歓迎 ・TOEIC800点以上相当の英語スキルをお持ちの方 ※海外のお客様とのやり取りが多く、国際学会にも参加するポジションであるため |
給与・待遇
| 給与 | 経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
|---|---|
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 電子ビームマスク描画装置の次世代装置開発リーダー/在宅週２ |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 08:45～17:30 |
|---|---|
| 休日・休暇 | 完全週休二日（土日）※年に1回土曜出社有 祝日 夏季休暇 年末年始休暇 有給休暇 慶弔休暇 |
その他
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
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| コンサルタントからのコメント | パソナキャリアがおすすめする求人です。詳細は面談時にお話しさせていただければと思いますので、まずはお気軽にエントリーください。 |
企業情報
| 企業名 | 社名非公開 |
|---|---|
| 設立 | 1997年 |
| 従業員数 | 799 |
| 資本金 | 6,486百万円 |
| 事業内容 | 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。 |
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