半導体製造装置の技術探索（前工程）【横浜】 社名非公開
| 職種 | 半導体製造装置の技術探索（前工程）【横浜】 |
|---|---|
| 社名 | 社名非公開 |
| 業務内容 |
【期待する役割】 半導体製造装置（前工程）における技術探索をお任せします。 ※下記キーワードに当てはまるご経験をお持ちの方は積極的にご応募下さい！ ■キーワード ・半導体製造装置 Clean、Dry Ether、Photo、Heater、Vacuum ・有ると望ましいKey Word 高耐食性材料、制御技術、次世代半導体構造など |
| 求める経験 | 【必須要件】 ■機械技術、電子技術、情報技術、System設計のいずれか一つの専門性が高く、他の技術の汎用的な知識保有 ■Clean・Dry Etcher・Photo設備に関する幅広いスキル ■海外学会参加、論文投稿 |
| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します
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| 年収 |
年収 600 ～ 1300 万円 経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
| 勤務時間 | 08:30～17:00 |
| 休日・休暇 |
完全週休二日（土日）夏季休暇、年末年始休暇、慶弔休暇 有給休暇10~20日 |
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
| 雇用形態 | 正社員 |
この求人情報は、「株式会社パソナ」が取り扱っています
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