【袖ヶ浦】研究開発（EUV用CNTペリクル量産化推進PJL） 社名非公開
| 職種 | 【袖ヶ浦】研究開発（EUV用CNTペリクル量産化推進PJL） |
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| 社名 | 社名非公開 |
| 業務内容 |
【採用背景】 当社では、収益の柱として当社の持続的成長に寄与することが期待されているEUV用CNTペリクルを開発し、量産化を進めています。ペリクルはフォトマスク（半導体回路の原版）の表面に装着する薄い保護膜であり、傷やホコリを付きにくくし、フォトマスクの検査・交換頻度を抑制する、露光工程の生産性向上には欠かせない防塵保護膜です。 当社はこのペリクルの世界トップメーカーであり、EUV用CNTペリクルを製品化することで、世界唯一のEUVペリクルメーカーとして今後のリソグラフィーロードマップを支え、世界の半導体市場の成長に貢献していきます。量産化には様々な難課題が残されており、メンバー間のコミュニケーションを活性化し、共に解決していく挑戦意欲ある人材を募集します。 ＜担当職務＞ 海外顧客・研究機関および三井化学グループ関係会社を束ねるプロジェクトマネージャーとして、ペリクル製品の最終仕様、顧客要求等の明確化を行うとともに、得られた情報から成功（顧客採用）のための必要十分条件を見いだしていく。 ◇担当製品（ペリクル）について: 半導体や液晶パネルの露光工程において、微細パターンが描かれたフォトマスクに塵が付着しシリコンウェハーやパネル基盤に結像することを防ぐために、フォトマスクのカバーとして使用される保護膜です。 同社は半導体業界の最先端技術であるEUV露光に用いられるEUVペリクルの事業化を果たしたトップランナーであり、半導体リソグラフィー分野で世界ナンバーワンのＡＳＭＬ社から同EUVペリクル事業のライセンス契約を受け、生産・販売を行っております。また、22年5月には旭化成社のペリクル事業を取得し、新製品の開発や最先端の技術向上を目指し、世界“No.1”の総合ペリクルメーカーの地位を強固なものとしております。 また、現在ASML社とIMEC社と最先端露光機用カーボンナノチューブ膜ペリクルの共同開発も行っており、事業化を進めております。 ■同社の魅力 ◇売上高1.7兆円を誇る東証プライム上場総合化学メーカー: 残業時間平均20.2時間、年次有給休暇取得率70%、平均勤続年数男性19.0年、女性20.4年、平均年収838万円と働きやすい環境が整っております。 ◇世界トップクラス製品多数保有: 製品例） メガネレンズ材料世… |
| 求める経験 | 【必須要件】 ・海外関係者とのコミュニケーション能力、語学力 ・開発マネジメント経験者 ・海外顧客対応経験 ・TOEIC600点以上 【歓迎要件】 ・顧客対応、技術サービス経験者 ・TOEIC730点以上 ・化学、電機、機械メーカーで、半導体材料開発や生産技術開発経験 ・半導体業界での経験 |
| 勤務地 |
千葉県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します
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| 年収 |
年収 1000 ～ 1120 万円 管理社員で採用の場合、月額賃金に7万円分の固定残業代が支給（超過分は支給）。 ＜モデル年収＞ ・29歳：550万円（一般職待遇/残業手当は別途支給） ・33歳：800万円（管理職待遇/みなし残業手当約20時間含む） ・37歳：920万円（管理職待遇/みなし残業手当約20時間含む） なお、経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
| 勤務時間 | 08:30～17:10 |
| 休日・休暇 | 完全週休二日（土日）祝日、年末年始、創立記念日、有給休暇（20日）、リフレッシュ休暇（年2日）、忌引休暇、結婚休暇、単身赴任帰宅休暇など |
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
| 雇用形態 | 正社員 |
この求人情報は、「株式会社パソナ」が取り扱っています
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