電子ビーム描画性能の精度解析および測定手法開発：チームリーダー【A-7-1】 株式会社ニューフレアテクノロジー
| 企業名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 年収 | 700万円 〜 1600万円 |
| 勤務地 |
神奈川県
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| 職種 | 電子ビーム描画性能の精度解析および測定手法開発：チームリーダー【A-7-1】 |
| 業種 | 半導体・電子・電気機器業界の解析 |
| ポイント | 電子ビーム描画性能の精度解析および測定手法開発：チームリーダー【A-7-1】 |
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正社員
転勤無し年間休日120日以上フレックス勤務
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募集要項
| 仕事内容 |
下記の業務を担当していただきます。 ・次世代電子ビームマスク描画装置の開発におけるメトロロジー装置を使った精度解析、評価 ・解析、評価の結果から次世代測定器の性能に関して仕様としてのフィードバックを行う 具体的には 〇チームリーダー：メトトロジー開発のチームリーダー ・メトトロジーGメンバーの技術指導及び育成 ・新規測定器の選定、導入 ・新規測定手法の開発 ・測定器メーカーとの定例会議 入社後まずは 測定業務へ担当者として参加していただき、下記項目の理解を深めるところからスタートしていただきます。 ・測定器(位置・線幅)への理解 ・評価結果の解析 ・新規測定技術の開発 ・描画装置に対する理解 ※経験やキャリアに応じてお任せする業務を検討します 【使用するツール、ソフト、環境】 ・Excel、MATLAB、プログラム（Python、C、Perl）、WINDOWS、UNIX系(描画機はUNIX系) 【期待・役割】 半導体の世代が進むにつれて描画機の性能評価の複雑化が見込まれ、適切に描画機の性能を評価する為の測定技術に対する要望が強くなってい... |
|---|---|
| 求める人材 | 【MUST】 ・半導体製造装置またはその他精密機器の測定器を用いたデータ解析業務経験をお持ちの方 ・メンバーマネジメント経験をお持ちの方 |
給与・待遇
| 年収 |
400万円～1100万円 ※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 電子ビーム描画性能の精度解析および測定手法開発：チームリーダー【A-7-1】 |
| 待遇・福利厚生 | 健康保険 厚生年金 雇用保険 労災保険 介護保険 企業年金通勤手当全額支給、家族手当、役職手当、35歳までの独身借上社宅制度・世帯向け借上社宅制度有り、厚生施設、社内食堂、財形貯蓄制度、持株制度、退職金制度 |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 08:45～17:30 |
|---|---|
| 休日・休暇 | 完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度 入社時1～19日（入社月による）※最大24日 繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度 |
その他
| 選考プロセス | 面接2回、書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定 |
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企業情報
| 企業名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 設立 | 2002年8月 |
| 従業員数 | 799名 |
| 資本金 | 64億8600万円 |
| 事業内容 | ＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞ ★半導体の未来をリードし続けます ◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置 ◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置 ◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます） 【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカ... |
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