【神奈川/茅ヶ崎】リソグラフィープロセス材料の開発担当 社名非公開
| 企業名 | 社名非公開 |
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| 年収 | 1000万円 〜 1000万円 |
| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します
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| 職種 | 【神奈川/茅ヶ崎】リソグラフィープロセス材料の開発担当 |
| 業種 | ガラス・化学・石油業界の生産技術・製造技術（化学） |
| ポイント | 【パソナキャリア経由での入社実績あり】パソナキャリアがおすすめする求人案件です。こちらの求人以外にも非公開求人も多数保有しておりますので、転職をお考えの方は、是非エントリーください。 |
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正社員
完全週休二日制年間休日120日以上平均残業月30時間以内英語を使う仕事フレックス勤務
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募集要項
| 仕事内容 |
【職務内容】 同社の技術革新センターリソグラフィープロセス材料研究課にて以下開発業務を担当いただきます。 ・顧客要望を受けた新規高分子化合物の設計、合成、特性基礎評価 ・大学や協業コンソーシアムとの共同研究への参画 ※能力や適正次第では、顧客と直接議論し、顧客要望や潜在的課題を元に素材設計に落とし込みを行う業務などの実施可能性もあります。 ※また、会社都合もしくは能力・適正などの都合により上記業務内容以外の仕事をしていただく可能性もあります。 【採用背景】 誘導自己組織化（DSA）技術開発体制の強化のためメンバーを増員します。 【期待しているスキル】 ・高分子化合物合成実務経験（リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合） ・コミュニケーション能力（関係部署との相談、議論が出来ること） ・界面化学、薄膜に関する知識 【配属部署】 リソグラフィープロセス材料研究課 【同社について】 ■大手優良化学メーカー／社員定着率・働き方◎ 設立1940年・長い歴史を持つ大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数18.4年です、自己資本比率70％超と安定経営を実現しています。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。 ■急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア 今後情報社会が進む中、5Ｇやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。 |
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| 求める人材 | 【必須要件】 ・高分子化合物合成実務経験（リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合） ・英語でのコミュニケーションに苦手意識がないこと 【歓迎要件】 ・界面化学、薄膜に関する知識をお持ちの方 |
給与・待遇
| 年収 |
年収 550 ～ 600 万円 ※経験・能力に応じ同社規定により優遇します。 賞与：年2回（6月、12月）※計7.13か月分、前年度実績 給与改定：年1回（4月） 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給（月額）は固定手当を含めた表記です。 なお、経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 【神奈川/茅ヶ崎】リソグラフィープロセス材料の開発担当 |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 08:30～17:15 |
|---|---|
| 休日・休暇 | 完全週休二日（土日）祝日、年末年始休暇、年次有給休暇（入社半年経過後 15日～最高20日）、慶弔休暇など |
その他
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
|---|---|
| コンサルタントからのコメント | パソナキャリアがおすすめする求人です。詳細は面談時にお話しさせていただければと思いますので、まずはお気軽にエントリーください。 |
企業情報
| 企業名 | 社名非公開 |
|---|---|
| 設立 | 1940年 |
| 従業員数 | 1469 |
| 資本金 | 14,640百万円 |
| 事業内容 | 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。 |
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