【埼玉】研究開発（EUV、NIL）※IPO準備中/フレックス テクセンドフォトマスク株式会社
| 企業名 | テクセンドフォトマスク株式会社 |
|---|---|
| 年収 | 400万円 〜 700万円 |
| 勤務地 |
埼玉県
新座市野火止7-21-33 |
| 職種 | 【埼玉】研究開発（EUV、NIL）※IPO準備中/フレックス |
| 業種 | 半導体・電子・電気機器業界の基礎研究(電気） |
| ポイント | ■半導体用フォトマスクの外販市場でトップクラスシェアを誇っています！ ■世界の半導体市場は急激に拡大を続けており、同社も将来的には株式上場（IPO）を目指しております！ |
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正社員
完全週休二日制年間休日120日以上フレックス勤務
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募集要項
| 仕事内容 |
「【埼玉】研究開発（EUV、NIL）※IPO準備中/フレックス」のポジションの求人です 下記のような研究開発業務を、スキルや適性に応じてご担当いただきます。 ■先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開発 ・シミュレーションを用いた次世代フォトマスク材料設計/開発/特許化。 ・次世代フォトマスクブランクス/レジスト/導電膜等の開発/特許化。 ・次世代フォトマスク用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管。 ・フォトマスク及びフォトマスク用材料の計測/分析。 ・統計手法及び機械学習を用いたプロセス開発/最適化/技術移管。 ■ナノインプリント向けの材料、プロセス、装置の研究開発 ・ナノインプリントの材料設計/開発/特許化。 ・ナノインプリント用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管。 【期待する役割】 研究開発にとどまらず、他部門と連携し製造現場へのプロセスの落とし込みまで携わっていただきます。海外顧客、装置や材料メーカーとのやり取り、海外他拠点の技術員との連携を推進しています。 【魅力】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANホールディングス株式会社から独立しIPOを目指しております。 そのため、現在の変革期にあたり新たな経験をグローバル目線で積むことができます。 |
|---|---|
| 求める人材 | 【必須要件】 ■研究開発業務経験者 ■海外と係りのある業務に抵抗が無い方。 【歓迎要件】 ・英語力 |
給与・待遇
| 給与 |
年収 400 ～ 700 万円 ※年収に関しては、応相談 ご経験に応じて、ポジションおよびご年収を検討。 なお、経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
|---|---|
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 【埼玉】研究開発（EUV、NIL）※IPO準備中/フレックス |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 09:00～18:00 |
|---|---|
| 休日・休暇 |
完全週休二日（土日）夏期9日 年末年始6日 その他（創立記念日、メモリアル休暇） |
その他
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
|---|---|
| おすすめポイント | ■半導体用フォトマスクの外販市場でトップクラスシェアを誇っています！ ■世界の半導体市場は急激に拡大を続けており、同社も将来的には株式上場（IPO）を目指しております！ |
| コンサルタントからのコメント | パソナキャリアがおすすめする求人です。こちらの求人案件以外にも各業界の非公開求人を多数保有しております。非公開求人は、エントリー後の面談にてご紹介可能ですので、転職をお考えの方は、是非エントリーください。 |
企業情報
| 企業名 | テクセンドフォトマスク株式会社 |
|---|---|
| 設立 | 2021年 |
| 従業員数 | 1800 |
| 資本金 | 400百万円 |
| 事業内容 |
半導体用フォトマスクの製造及び販売 ■「フォトマスク」とは LSIなど集積回路の製造工程で使用される重要部材です。表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版になります。フォトマスク上のパターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細なパターンを形成します。回路パターンデータを元に電子ビーム描画技術によってフォトマスク基板上にマスクパターンを形成し、その後エッチング・レジスト剥離・洗浄・測定・検査を経てフォトマスクが完成します。 |
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