【山梨】クリーンルーム内での洗浄・組立・検査業務／年休128日／東証プライム上場 株式会社トリケミカル研究所
| 企業名 | 株式会社トリケミカル研究所 |
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| 年収 | 450万円 〜 800万円 |
| 勤務地 |
山梨県上野原市上野原8154-217
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| 職種 | 【山梨】クリーンルーム内での洗浄・組立・検査業務／年休128日／東証プライム上場 |
| 業種 | 総合化学／製造（組立） |
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正社員
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募集要項
| 仕事内容 |
～半導体用化学薬品の圧倒的シェア／機械や装置の組み立て経験者歓迎／所定労働時間は6時間40分／関東方面からの通勤者も多いです～ ■当社について： 当社は先端半導体製造に必要な化学材料を多品種少量生産する化学メーカーです。大手が参入しづらいニッチ製品の少量多品種生産に強みを持っています。今回は製造部の体制強化のための募集になります。 ■業務内容： クリーンルーム内での容器洗浄・組立、気密検査が主な仕事になります。一通りの業務に慣れた後は作業時間の効率化や歩留まり改善にも携わっていただきたいと考えています。 ■業務全体の流れについて： 充填した容器をお客様先に出荷をし、使用後には当社に返送されます。その空になった容器を分解し洗浄、組み立てをし気密検査が主な流れになります。容器は約50種類ほどあり、お客様毎にオーダーメイドで作っているため多種多様な容量・カタチになっていますが、組み立ての際もマニュアルが準備されているので、ご安心ください。 ■業務詳細： 容器洗浄は水槽に容器を入れて、一定時間超音波を当てて洗浄します。また、洗浄したバルブの組立、及び容器に組み立てたバルブを含めた付属品の取り付けも行います。1日に洗浄・組立をする容器は約50本ほどになります。気密検査は、容器に漏れがないかどうか確認する検査です。 将来的には、5S・品質改善・コスト削減・環境対策・労働環境改善など業務全般に渡り、問題点を抽出して、業務改善に取り組んでいただきます。 ■組織構成： 平均年齢は34歳となっており、コミュニケーションが活発で意見交換等しやすい環境となっています。 ■教育体制： 入社後は基本的にOJTになります。 変更の範囲：会社の定める業務 |
|---|---|
| 求める人材 | ■歓迎条件： ・機械や装置の組み立てのご経験をお持ちの方 |
給与・待遇
| 給与 |
450万円 ～ 750万円 ■通勤手当 ■住宅手当 ■家族手当 ■残業手当 |
|---|---|
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 【山梨】クリーンルーム内での洗浄・組立・検査業務／年休128日／東証プライム上場 |
| 待遇・福利厚生 |
■各種社会保険完備 ■退職金制度 |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 8:30～16:30 |
|---|---|
| 休日・休暇 | ■完全週休2日制■完全週休2日制（土・日）■祝日 |
その他
| 選考プロセス | 書類選考→1次面接→最終面接 |
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| 企業会社特徴 | 【業界におけるトリケミカル】 ～化学業界における当社の位置づけ～ 当社の属する化学工業の分野は、プラスチック・ゴム製造等を加えた広い定義で考えると、日本企業の年間出荷額は39兆円にものぼる（プラスチック・ゴムを除いても25兆円）日本の製造業の根幹を支える産業の一つであります。 トリケミカルはそのような化学工業の分野で、おそらく日本だけではなく世界中の化学薬品製造メーカーの中で最高レベルの純度（99.9999％up）を誇る高付加価値化学薬品＝ウルトラファインケミカルを開発・製造・販売している企業です。 当社の製品は、主として半導体・光ファイバー・太陽電池といった、最先端デバイス等の製造用材料として用いられております。 ～半導体業界における当社の役割～ 当社の売上高の9割以上は半導体製造用の化学薬品等です。 半導体はその宿命として継続的な微細化（＝高集積化）が求められております。現在最先端の半導体の配線の幅は20～30nmと言われていますが、こちらは既に研究レベルでは18nmや12nmといったところまでの検討が始まっています。ちなみに1nmとは1mmの百万分の1（0.000001mm）で、ちなみに一般的な髪の毛の太さは0.07mm位と言われています。したがいまして、最先端半導体向けの材料にはわずかな不純物の混入も許されないのです。 また、半導体を製造工場では、数百～千種類を超える化学薬品を使用すると言われています。その中には当然膨大な量を使用するものもございますが、年間数g～数十kgしか使わないものも数多くあります。 当社はウルトラファインケミカルを 1. 年間数百種類（累計では2000種類以上） 2. 年間数ミリグラム～数十tのオーダー で出荷しており、その点で半導体製造メーカーのニーズに合致しているのです。 |
企業情報
| 企業名 | 株式会社トリケミカル研究所 |
|---|---|
| 設立 | 28825 |
| 資本金 | 32億7，891万円 |
| 事業内容 |
★半導体デバイスの微細化や、最新鋭の技術を開発する上で不可欠なウルトラファインケミカルを提供しています★ ■高純度ファインケミカル技術により先端産業向け材料を提供する研究開発型企業です。主な製品種類は、ウェハの表面上に薄膜を化学反応を用いて堆積させる「CVD材料」、薄膜の不必要な部分を腐食させて削り取る「エッチング材料」、ウェハ上にトランジスタやダイオード等を作るために不純物を注入させる「拡散材料」となっております。 ■半導体デバイスの微細化、化学物質を取り巻く法規制等により、半導体業界からは常に 材料変更・純度向上の要求があります。その要求に対し、材料工学・応用化学の観点から常に新しい材料の開発・提案を行い新材料の供給を行っております。 ■日本はもちろん、今後は台湾・韓国・中国などの東アジアを中心に販売拡大を計画しています。それに向けての人員・設備への投資を実施予定です。 ■社員の約7割が化学系出身の技術者集団です。営業もほとんどが製造・技術開発を経験した者なので、顧客のニーズを把握し、社内開発部門へ的確なフィードバックが出来る体制となっております。 |
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