【滋賀】プロセス開発（イオン注入装置／注入技術） 日新イオン機器株式会社
| 企業名 | 日新イオン機器株式会社 |
|---|---|
| 年収 | 500万円 〜 800万円 |
| 勤務地 |
滋賀県甲賀市水口町ひのきが丘29
近江近鉄本線「水口松尾」駅より車で9分 勤務地変更の範囲：勤務地からの変更はなし |
| 職種 | 【滋賀】プロセス開発（イオン注入装置／注入技術） |
| 業種 | 総合電機業界の生産・製造・プロセス技術（半導体） |
| ポイント | 世界トップクラス機械装置メーカー／年休128日／半導体製造に不可欠な装置 |
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正社員
完全週休二日制年間休日120日以上育児支援制度あり社宅・家賃補助制度資格取得支援制度フレックス勤務U・Iターン歓迎
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募集要項
| 仕事内容 |
【職務概要】 同社にて下記業務を担当いただきます。 【職務詳細】ご経験に応じて担当業務範囲を決定します。 ・半導体製造及びフラットパネルディスプレイ製造用イオン注入装置のプラズマ源、ビーム引出し系、ビーム輸送系等の開発、イオン注入技術を用いたプロセス開発業務をお任せします。 ・イオン注入装置の構成や技術的な仕様の検討、イオン注入装置の評価試験や改良を実施します。 （機械・電気等の詳細設計は他部署に依頼します） 【出張について】 韓国／中国／台湾など海外出張の可能性があります。 【働き方】 在宅勤務・リモートワーク：相談可（週2日リモート・在宅） 【同社の魅力】 同社装置はスマートフォンやタブレット端末向けの高輝度・高精細ディスプレイ製造に不可欠なものと位置づけられ、世界シェア100％で市場を独占するに至りました。 【業務内容変更の範囲】 同社業務全般 |
|---|---|
| 求める人材 | 【必須】 ・理系・工業大学レベルの物理・数学の基礎知識 ・プラズマ、ビーム、半導体プロセスのいずれかの物理、 工学について、大学で専攻又は業務経験がある方 |
給与・待遇
| 給与 |
年収:526万～753万程度 月給制：月額264000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:有 |
|---|---|
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 【滋賀】プロセス開発（イオン注入装置／注入技術） |
| 待遇・福利厚生 |
時短制度、出産・育児支援制度、資格取得支援制度、通勤手当、退職金、家賃補助、独身寮・社宅 喫煙情報：敷地内禁煙（喫煙場所あり） |
勤務時間・休日
| 勤務時間 |
フレックスタイム制／コアタイム：9：30～15：00 標準的な勤務時間帯：8：30～17：00（所定労働時間7時間45分） |
|---|---|
| 休日・休暇 | 年間休日128日（土日祝）、GW、夏季休暇、盆、年末年始休暇、有給休暇（4月1日を基準日とし入社月によって1～17日支給） |
その他
| 募集背景 | 事業拡大に伴う増員 |
|---|---|
| 選考プロセス | 1次面接→2次面接（SPI・筆記試験）→最終面接 |
| サービス詳細・特徴 | 装置事業：半導体製造用イオン注入装置／FPD製造用イオン注入装置（医療・宇宙・エネルギー・新素材等、様々な分野でイオンビームの技術応用が期待されています。） イオンビーム事業：カスタマーサービス（顧客が購入した同社装置をいつも通り使用できるように、日本及び世界にわたって 顧客の至近にサービス拠点を展開し、専門技術を有する経験豊かなサービスエンジニアにより、迅速且つ確実な顧客サポートをご提供しています。） イオン注入サービス：300mmウェーハを用いた最先端のシリコンデバイス向け注入の他、SiCやGaNデバイス向けの高温注入やVCSEL向け水素イオン注入も可能 |
企業情報
| 企業名 | 日新イオン機器株式会社 |
|---|---|
| 設立 | 1999年4月1日 |
| 従業員数 | 314名 |
| 資本金 | 15億円 |
| 事業内容 |
【事業の内容】 半導体製造用及びフラットパネルディスプレイ製造用イオン注入装置の開発、設計、製造、販売、保守 【会社の特徴】 各種手当などが充実しており長期就業できる環境です。 同社の装置は、機械・電気・ソフト・物理など様々な分野の技術が絡み合った集合体です。 そのため、専門分野だけにとどまらず、貪欲に多くの知識を取り入れることに挑戦することです。 また、スマートフォンやタブレット端末向けの高輝度・高精細ディスプレイ製造に不可欠なものと位置づけられ、世界シェアトップクラスです。 新卒入社者の3年後定着率は、10年連続100％！定着率が高く、離職者が少ない会社です。 |
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