フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価【鶴見】 社名非公開
| 職種 | フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価【鶴見】 |
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| 社名 | 社名非公開 |
| 業務内容 |
【職務内容】 フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価 ※下記キーワードに関連するご経験をお持ちの方は積極的にご応募ください！ ＜キーワード＞ 半導体、微細加工、リソグラフィ、フォトレジスト、ArF、KrF、EUV、EB、感光性、光反応、フォーミュレーション |
| 求める経験 | 【必須要件】※下記いずれかのご経験をお持ちの方※ ■フォトレジストの研究開発の経験があり、先端半導体リソグラフィに精通していること ・フォトレジストの研究開発（ArF, EUV向け） ・フォトレジストの処方（フォーミレーション）、物性評価（特にプロセス適性）、ポリマー/感光剤（PAG）等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーション ※フォトレジストの開発経験がなくても、下記の経験があればOKです ■フォトレジスト周辺素材：BARC（反射防止膜、アンダーレイヤー）、SOH（スピンオンハードマスク）等の処方/物性評価 |
| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します
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| 年収 |
年収 700 ～ 1300 万円 経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
| 勤務時間 | 08:30～17:00 |
| 休日・休暇 |
完全週休二日（土日）夏季休暇、年末年始休暇、慶弔休暇 有給休暇10~20日 |
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
| 雇用形態 | 正社員 |
この求人情報は、「株式会社パソナ」が取り扱っています
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