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powered by   2025/01/21 更新
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組み込みソフトウェアエンジニア<電子ビームマスク描画装置> ニューフレアテクノロジー

掲載開始日:2024/07/04
終了予定日:2024/08/01
更新日:2025/01/11
ジョブNo.377394
企業名 ニューフレアテクノロジー
年収 700万円 〜 1500万円
勤務地
神奈川県/横浜市磯子区/新杉田町8-1
職種 組み込みソフトウェアエンジニア<電子ビームマスク描画装置>
業種 プラント・エンジニアリング業界のプログラマー(制御系)
ポイント ■安定した企業で腰を据えて長くお勤めしたい方におススメです。平均勤続年数は15年程度と長く、直近4年間の入社者の離職人数は1名と定着率も非常に高い企業です。 ■中途採用者の人員の割合は4割程度と高く、馴染みやすい環境です。採用担当者によると、他部署との連携も取れており、風通しの良い職場と伺っています。
正社員 転勤無し年間休日120日以上社宅・家賃補助制度資格取得支援制度フレックス勤務

募集要項

仕事内容 電子ビームマスク描画装置のデータパスにおけるソフトウェアシステムにおける開発/保守業務をご担当いただきます。製品のモジュールごとに3チームに分かれているため、基本的にチーム内で協業しながら業務を行っていただきます。同社の主力製品である電子ビームマスク描画装置のデータパスに関するソフトウェアシステムにおいて、顧客からのフィードバックに基づいた開発および生産保守業務をご担当いただきます。

【業務内容】
■電子ビームマスク描画装置に関わるソフトウェアの開発・設計/保守
■電子ビームマスク描画装置のデータ補正/データ変換/偏向制御/JOB制御など

【使用するツール、ソフト、環境】
■C++、Java、Python、bash、OSはLinux(Redhat系)が主

【キャリアステップ】
■描画装置のソフトウェア担当として、入社後まずは開発および生産保守の後方支援業務を通して製品理解を深めていただき、経験および能力に応じて、開発/保守の技術リーダーや次世代の装置開発、海外/国内顧客窓口としての活躍ができる可能性があります。

【このポジションの魅力】
■電子ビームマスク描画装置の描画精...
求める人材 【必須要件】※以下いずれかのご経験をお持ちの方
■言語不問でソフトウェア言語を使用された方
■ソフトウェア保守・運用経験をお持ちの方

【歓迎要件】
■ソフトウェアの開発経験
■数値解析の知見
※第二新卒、組込みソフトウェア開発未経験可

給与・待遇

給与 420-940万円
月給:23万円?42万円
雇用・契約形態 正社員
募集ポジション 組み込みソフトウェアエンジニア<電子ビームマスク描画装置>
待遇・福利厚生 健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、厚生年金
通勤手当、住宅手当、資格手当、時間外手当、福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり

勤務時間・休日

勤務時間 08:45 - 17:30(コアタイム:00:00 - 00:00)
休日・休暇 年間125日以上/(内訳)完全週休2日制(土・日)、祝日、夏期休暇、年末年始、有給休暇(初年度入社1?19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)、慶弔休暇、特別休暇、リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得、育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度

その他

選考プロセス 【筆記試験】有(一次選考後に適性検査を受験いただきます)
【面接回数】2回
【選考フロー】一次選考(人事担当、部門担当)→最終選考(役員)

企業情報

企業名 ニューフレアテクノロジー
事業内容 【概要・特徴】 東芝デバイス&ストレージ(株)100%子会社の半導体装置専業メーカー。2002年に東芝機械(株)から半導体装置事業を継承して以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の設計、開発、製造、販売、保守を行なっています。電子ビームマスク描画装置は、LSI(大規模集積回路)製造工程に必要なことから定期的に機器の入れ替えがあるため、半導体業界のシリコンサイクルに影響されることのない安定した需要が見込まれています。 【強み】 世界トップレベルの描画精度を有しており、電子ビームマスク描画装置の世界シェア1位(90%以上)であることが強み(自社調べ)。半導体の多くが同社の電子ビームマスク描画装置を使って量産されており、半導体市場を支えています。また、2030年には世界の半導体市場規模は1兆ドルを超す見込みで、2024年度の日本製半導体製造装置の販売額は4兆円を超え、過去最高を更新する見込みなど、市場も活況をみせています。 【技術力】 電子ビームマスク描画装置第1号機の開発を基点に、最先端デバイス用の回路パターンをフォトマスク上に高速・高精度で描画できる電子光学系を自社で開発しました。現在は、電子ビームをナノメーター単位で制御し、東京タワーから富士山頂にある1.6mmの的を射抜くほどの高精度なレーザー技術を有しています。

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