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powered by   2025/06/18 更新
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知的財産<特許権利化業務> ニューフレアテクノロジー

掲載開始日:2025/04/21
終了予定日:2025/05/19
更新日:2025/05/10
ジョブNo.415838
企業名 ニューフレアテクノロジー
年収 650万円 〜 1000万円
勤務地
神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
職種 知的財産<特許権利化業務>
業種 プラント・エンジニアリング業界の知的財産
ポイント ■安定した企業で腰を据えて長く勤務したい方におすすめです。平均勤続年数は15年程度と長く、過去4年間の入社者で離職人数は1名と定着率も非常に高い企業です。
■中途採用者の人員の割合は4割程度と高く、馴染みやすい環境です。採用担当者からは、他部署との連携も取れていて、風通しの良い職場と伺っています。
正社員 転勤無し年間休日120日以上英語を使う仕事社宅・家賃補助制度資格取得支援制度

募集要項

仕事内容 【業務内容】
知的財産を取り扱う部署で、技術開発部門と連携して以下の業務を担当していただきます。
・特許権利化業務(発明発掘、公知例調査、国内外特許出願、中間処理)
・他社特許対策業務
なお、適性を考慮し、将来的に上記以外にも、知財戦略立案、IPランドスケープ、その他の知財業務に携わっていただく可能性があります。

【魅力】
・拡大する半導体製造装置市場において世界トップクラスにあるメーカーで、知財戦略を実行し、事業成長への貢献を体験することができます。
・知財グループは、経営企画部の中に配置され、毎期、社長・関係取締役が参加する知財戦略会議を開催して、知財戦略実行のための活動方針を決定しています。
・東芝他のメーカーや特許事務所等の異なる経歴でそれぞれ豊富な実務経験を有する知財メンバーが、互いにサポートし合いながら、一丸となって知財戦略を実行しています。
・技術開発部門側も定期的に知財関連の会議を開催するなど、知財グループと連携して、各部門の目標達成に向けた知財活動を積極的に推進しています。
・東芝グループでは知財部門間で活発な情報交換が行われており、キャリア採用メンバーも知財...
求める人材 【必須要件】※下記いずれも必須
・メーカー又は特許事務所での特許権利化業務経験が3年以上ある方
・英文の特許権利化業務に支障が無いレベルの語学力をお持ちの方
・基本的なPCスキル(Word、Excel、PowerPoint等)をお持ちの方

【歓迎要件】
・半導体メーカー若しくは半導体製造装置メーカーに従事経験のある方
・電気・電子、ソフトウェア関連の出願明細書を書いた経験のある方
・弁理士資格をお持ちの方

給与・待遇

給与 670-940万円
※諸手当、福利厚生は雇用形態等諸条件により、適用外の場合があります。詳しくはコンサルタントまでお問い合わせ下さい。
雇用・契約形態 正社員
募集ポジション 知的財産<特許権利化業務>
待遇・福利厚生 健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、厚生年金
通勤手当、住宅手当、資格手当、時間外手当、福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり

勤務時間・休日

勤務時間 08:45 - 17:30(コアタイム:00:00 - 00:00)
休日・休暇 年間126日/(内訳)完全週休2日制(土・日)、祝日、夏期休暇、年末年始、有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)、慶弔休暇、特別休暇、リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得、育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度

その他

選考プロセス 【面接回数】2回
【選考フロー】書類選考⇒一次面接(原則WEB)⇒適性検査⇒2次面接(原則対面)
※面接官:一次(人事採用担当、職場責任者)、二次(部門責任者、部門役員、人事責任者、人事役員)

企業情報

企業名 ニューフレアテクノロジー
事業内容 【概要・特徴】
東芝(株)100%子会社の半導体装置専業メーカー。2002年に東芝機械(株)から半導体装置事業を継承して以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の設計、開発、製造、販売、保守を行なっています。電子ビームマスク描画装置は、LSI(大規模集積回路)製造工程に必要なことから定期的に機器の入れ替えがあるため、半導体業界のシリコンサイクルに影響されることのない安定した需要が見込まれています。

【強み】
世界トップレベルの描画精度を有しており、電子ビームマスク描画装置の世界シェア1位(90%以上)であることが強み(自社調べ)。半導体の多くが同社の電子ビームマスク描画装置を使って量産されており、半導体市場を支えています。また、2030年には世界の半導体市場規模は1兆ドルを超す見込みで、2024年度の日本製半導体製造装置の販売額は4兆円を超え、過去最高を更新する見込みなど、市場も活況をみせています。

【技術力】
電子ビームマスク描画装置第1号機の開発を基点に、最先端デバイス用の回路パターンをフォトマスク上に高速・高精度で描画できる電子光学系を自社で開発しました。現在は、電子ビームをナノメーター単位で制御し、東京タワーから富士山頂にある1.6mmの的を射抜くほどの高精度なレーザー技術を有しています。

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