レイアウト・マスク・リソグラフィ設計技術[D] / キオクシア(旧東芝メモリ株式会社)
ジョブNo.08-51064330
職種 | レイアウト・マスク・リソグラフィ設計技術[D] |
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社名 | キオクシア(旧東芝メモリ株式会社) |
業務内容 |
◆メモリ製品開発の初期段階からあらかじめ製造のし易さを考慮して設計する「製造性考慮設計(DFM: Design for Manufacturability)」の研究開発。 ご経験やご志向を考慮の上、 ・シミュレーション技術の研究開発 (光学、プロセス、機械学習、数理最適化) ・シミュレーションを活用したレイアウト、マスク、 リソグラフィ設計の研究開発 ・メモリ製造用レイアウト設計、光近接効果補正 (OPC: Optical Proximity Correction )技術の研究開発 ・新規計算技術(AI、TCAD)、計算機利用技術(クラウド)の開発 上記いずれかを担当頂きます。 ■製造性考慮設計を実現する為には、設計部門のみならず、技術部門、製造部門、ソフトウェア・ハードウェアベンダー、研究機関(国内外大学等)との連携が不可欠。各部門と連携し最適設計を実現することが業務となります。 |
求める経験 | 【必須要件】 ■以下いずれかに該当される方 ・光学設計・光学シミュレーションの知見をお持ちの方 ・TCADなどプロセスシミュレーションの経験をお持ちの方 ・科学計算、数理最適化、機械学習の経験や プログラミング技術をお持ちの方 ・半導体レイアウト設計の知見のある方 ・大規模システム構築の経験をお持ちの方 ※ご経験分野不問。半導体デバイスのみならず、カメラや液晶ディスプレイなど各種光学技術応用製品、プリント基板、情報システムなど幅広い分野の経験を活かしていただけます。 |
勤務地 |
神奈川県横浜市栄区
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年収 | 400万円〜1000万円 |
雇用形態 | 正社員 |
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