【神奈川】半導体後工程用レジスト材料の製造プロセス開発 社名非公開
| 企業名 | 社名非公開 |
|---|---|
| 年収 | 450万円 〜 600万円 |
| 勤務地 |
神奈川県
詳細につきましてはご面談時にお伝え致します |
| 職種 | 【神奈川】半導体後工程用レジスト材料の製造プロセス開発 |
| 業種 | ガラス・化学・石油業界の生産技術・製造技術（化学） |
| ポイント | 【パソナキャリア経由での入社実績あり】パソナキャリアがおすすめする求人案件です。こちらの求人以外にも非公開求人も多数保有しておりますので、転職をお考えの方は、是非エントリーください。 |
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正社員
完全週休二日制年間休日120日以上平均残業月30時間以内社宅・家賃補助制度フレックス勤務
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募集要項
| 仕事内容 |
【職務内容】 高機能フィルムならびに半導体後工程用レジスト材料（液体・フィルム）等に関する量以下業務をご担当頂きます。 ・フィルム（塗布型）生産装置の管理と改良および新規設備導入によるフィルム品質向上、原価低減、増産対応検討 ・半導体後工程用レジスト材料対応要員 【組織構成】 配属先となる第三生産技術室は現在16名が在籍しています。対応業務としては、高機能フィルム、半導体後工程用レジスト材料（液体、フィルム）、新事業の開発品から工場移管までに関わる工程開発、原材料管理になります。 半導体後工程用レジスト材料においては、2024年についても原材料変更、製造移管、増産方法検討などのテーマを進行予定であり、人員増強を行います。 【同社について】 ■大手優良化学メーカー／社員定着率・働き方◎ 設立1940年・長い歴史を持つ大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数18.4年です、自己資本比率70％超と安定経営を実現しています。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。 ■急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア 今後情報社会が進む中、5Ｇやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。 |
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| 求める人材 | 【必須要件】※下記いずれか ・材料開発のご経験 ・生産技術/生産設備の立ち上げや、製造プロセス開発、量産移管に関するご経験 【歓迎要件】 ・原材料サプライヤーにおけるご就業経験 |
給与・待遇
| 給与 |
年収 450 ～ 600 万円 ※経験・能力に応じ同社規定により優遇します。 賞与：年2回（6月、12月）※計7.13か月分、前年度実績 給与改定：年1回（4月） 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給（月額）は固定手当を含めた表記です。 なお、経験・スキルに応じて変動の可能性があります |
|---|---|
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 【神奈川】半導体後工程用レジスト材料の製造プロセス開発 |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 08:45～17:30 |
|---|---|
| 休日・休暇 | 完全週休二日（土日）祝日、年末年始休暇、年次有給休暇（入社半年経過後 15日～最高20日）、慶弔休暇など |
その他
| 募集背景 | 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。 |
|---|---|
| コンサルタントからのコメント | パソナキャリアがおすすめする求人です。詳細は面談時にお話しさせていただければと思いますので、まずはお気軽にエントリーください。 |
企業情報
| 企業名 | 社名非公開 |
|---|---|
| 設立 | 1940年 |
| 従業員数 | 1469 |
| 資本金 | 14,640百万円 |
| 事業内容 | 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。 |
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