求人の約80%を占める、一般には公開されない非公開求人もご紹介します。
公開求人数:332件 / 総求人数:2,272件(非公開求人を含む) / 注目求人:36件
リソグラフィ に該当する転職・求人一覧
気になる求人 について相談したい |
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勤務地 | 石川県能美市 |
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年収 | <予定年収>400万円~800万円<賃金形態>月給制補足事項なし<賃金内訳>月額(基本給):200,000円~<月給>200,000円~<昇給有無>有<残業手当>有<給与補足>※経験・スキル・期待貢献に応じて、当社規定により決定します。■... |
業務内容 | ~日本の有機ELの未来を担う企業/パナソニック・ソニーの技術を集結/年間休日120日以上~■職務内容:印刷有機ELのTFT工程の生産性改善、歩留り改善、新機種立ち上げ等の開発改善業務もしくは、TFTデバイスの評価・工程改善に携わっていただ... |
求める経験 | <応募資格/応募条件>■必須要件:※下記いずれかのご経験をお持ちの方・半導体・液晶・有機EL・電子部品などのデバイスの製造工程に関する業務経験・以上のデバイスの評価のご経験■歓迎要件:(1)フォトリソ工程の開発経験、または立上げ経験/(2... |
【理系第二新卒歓迎】有機ELパネル製造・開発/東証一部企業
(550〜650万円)
液晶製造装置やカーエレクトロニクス関連などの開発・製造・販売を行う当社で、液晶・パネル部門の開発業務をお任せします。 具体的には、要素技術開発やプロセス開発、また開発装置における各種評価から計測・分析までをお願いします。プラズマ技術や熱処理技術、真空装置などの…
半導体プロセスエンジニア【滋賀工場】社名非公開について相談したい |
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勤務地 | 滋賀県大津市 |
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年収 | 450万円〜850万円 |
業務内容 | プロセスまたはデバイスエンジニアとして、新規プロセスの開発業務に携わって頂きます。 ■MOSFET/IGBT/Diode/LSIのプロセスインテグレーション開発 ■歩留り、品質改善 【同社の商材】 顧客のニーズに対応した高付加価値の... |
求める経験 | ... L半導体プロセスまたはデバイスエンジニアの業務経験 L半導体ダイシング要素技術経験 L半導体フォトリソグラフィ要素技術経験 LMOSFET/IGBT/Diode等のパワーデバイス開発経験 |
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勤務地 | 岐阜県土岐市 |
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年収 | 520万円〜750万円 |
業務内容 | クリーンルーム内工程の製造技術・工程管理業務に携わって頂きます。 成膜工程(スパッタ成膜および蒸着成膜)、フォトリソ工程、剥離・洗浄工程などの工程作業を管理していただきます。 【業務一例】 ・工程改善、歩留まり改善 ・製造スタッフへの作業... |
求める経験 | 【必須要件】 ■半導体製造工程での経験 【歓迎要件(あれば尚可)】 ・成膜装置(スパッタ装置および蒸着装置)の取扱いがある方 ※希望・適性に応じ配属となります。 |



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- 非公開求人とは何ですか?
- 全求人の80%を占めている、「一般に公開されていない」求人です。無料転職サポートに登録することで、非公開求人についてもキャリアコンサルタントから直接紹介を受けることができます。非公開である理由として、「人気があり、応募殺到を防ぎたい」「専門性が高く一般公開しづらい」「他社に知られたくない極秘の求人である」「緊急の募集で掲載する時間がない」などがあります。
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