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塗布 に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 東京都新宿区西新宿6-10-1 日土地西新宿ビル20F |
|---|---|
| 年収 | 500-1000万円 ※想定残業時間込みの金額となります。 |
| 業務内容 | ■メガネレンズの開発設計部門にて、メガネレンズ用製造装置及びプロセス開発業務をご担当頂きます。 【具体的には】 ・眼鏡用調光レンズの開発を促進するための製造用装置及びプロセス開発業務 ※コーテイング装置（スピン塗布装置、UV照射装置）をご... |
| 求める経験 | 【必須要件】 ※英語の利用に抵抗感がなく、以下いずれかに該当する方 ■コーテイング装置（スピン塗布装置、UV照射装置）の設計・開発の経験 ■光学部品や半導体、またはディスプレイ製造のプロセス開発の経験 ■開発した装置を海外工場で量産・立ち上... |
| 勤務地 | 神奈川県相模原市中央区小山4-1-55 |
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| 年収 | 600-950万円 ※諸手当、福利厚生は雇用形態等諸条件により、適用外の場合があります。詳しくはコンサルタントまでお問い合わせ下さい。 |
| 業務内容 | ■半導体光デバイスの開発／製造における下記業務をご担当いただきます。 【具体的には】下記業務をご担当いただきます。 ・光デバイス開発/製造に関する塗布・現像、露光装置の管理と工程担当 ・光デバイス製造工程における工程改善、歩留向上、生産不... |
| 求める経験 | 【必須要件】※以下いずれも必須 ■半導体光デバイスの開発または製造工程において、ウエハプロセス生産技術業務経験をお持ちの方 ■ビジネスレベルの英語力（TOEIC650点程度） 【歓迎要件】 ■化合物半導体ウエハプロセスにおいて、レジスト塗... |
| 勤務地 | 大阪府大阪市中央区城見町2-2-22 マルイトOBPビルディング10階 |
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| 年収 | 600-1350万円 |
| 業務内容 | ■SAWフィルタデバイスのプロセス技術開発（リソグラフィ）を担当していただきます。 【具体的には】 ・SAWリソグラフィ工程のプロセス条件、設備改善によるプロセス安定化、品質確保 ・プロセス／設備両面からのアプローチによる設備間差の縮小化... |
| 求める経験 | 【必須要件】 ■BAW/SAWフィルターや半導体デバイスにおいてプロセス技術、特にリソグラフィ工程の業務経験をお持ちの方 ■10-15年程度の実務経験をお持ちの方 ■Windows, Excel, PowerPointなどの基本的なビジネス... |
| 勤務地 | 滋賀県東近江市妙法寺町1101-20 |
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| 年収 | 400万円 ～ 700万円 ■通勤手当 ■家族手当 ■残業手当 |
| 業務内容 | ■業務内容： ディスプレイ用途の反射防止フィルム製品の生産技術業務をご担当頂きます。 塗布、乾燥プロセスの最適化やIoT機器導入による生産性改善の業務を担当頂きます。 ■お任せしたい業務工程： 工程管理・工程改善をメイン業務としてお任せい... |
| 求める経験 | ■必須条件： ・光学専攻をされてきた方 ・生産技術としてご経験されてきた方 |
| 勤務地 | 大阪府堺市堺区大仙西町３丁９１ |
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| 年収 | ～ 800万円 ■住宅手当 ■家族手当 ■その他手当 |
| 業務内容 | ＜23SBH04＞ 【事業内容・部門説明】 同社のセンシング事業は、同社グループのポートフォリオ戦略上、インダストリー事業領域の中核事業としての成長を計画しています。光学技術をルーツとして光・色計測機器/ソリューションの企画、開発、製造、... |
| 求める経験 | 【必須となる資格・スキル・経験など】 ■ビジネス上でコミュニケーション可能な英語力 ■下記いずれかのご経験 １）一機一億円規模の設備導入のご経験 ２）設備サプライヤー、もしくは複数工場への設備導入のご経験 【あれば望ましい資格・スキル・経... |
| 勤務地 | 東京都府中市住吉町2-30-7 |
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| 年収 | 500万円～850万円 ※2017年実績/基本給＋地域手当＋賞与＋時間外手当 20代/670万円、30代/880万円 |
| 業務内容 | 半導体製造装置、フラットパネルディスプレイ製造装置等の制御ソフトウエア開発を担当いただきます。 具体的には仕様打合せから基本設計から詳細設計、コーディング、（結合・システム）テスト、運用保守までの一連の開発業務を担っていただきます。 ... |
| 求める経験 | 【必須条件】 C++での開発経験 【歓迎/尚可条件】 ・リアルタイムOS経験者でありC言語での組込／ドライバ開発経験 ・駆動系制御、プロセス制御、装置制御の設計・コーディング経験 ・Linux環境でのC++等のオブジェクト指向... |