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powered by   2025/01/30 更新
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【横浜/第二新卒歓迎】電子ビームマスク描画装置の電子ビーム自動調整ソフトウェア開発【A-21】 株式会社ニューフレアテクノロジー

掲載開始日:2024/06/12
更新日:2025/01/11
ジョブNo.232239
企業名 株式会社ニューフレアテクノロジー
年収 700万円 〜
勤務地
神奈川県
職種 【横浜/第二新卒歓迎】電子ビームマスク描画装置の電子ビーム自動調整ソフトウェア開発【A-21】
業種 半導体・電子・電気機器業界のシステムエンジニア(マイコン・計測・画像等)
ポイント 【横浜/第二新卒歓迎】電子ビームマスク描画装置の電子ビーム自動調整ソフトウェア開発【A-21】
正社員 転勤無し年間休日120日以上フレックス勤務

募集要項

仕事内容 【募集背景】
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化にむけ、電子光学鏡筒の評価や調整方法の開発、自動調整ソフトウェアの開発/実装が必要となります。
描画装置の心臓ともいえる電子光学鏡筒の性能を引き出すための開発組織を拡充するための募集となります。

【業務内容】
当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置の電子光学鏡筒部分における開発業務をお任せします。
新規開発された電子光学鏡筒の評価を行い、その結果を設計グループにフィードバックすることで、量産レベルまで製品の完成度を高める業務です。

また、その過程で電子ビーム調整方法の開発を行い、調整自動化のためのソフトウェアの開発や実装もご担当いただきます。
2年ほどで新機種を開発しており、次々と新しい装置の開発に携わることができる環境です。
装置の立上げやトラブルシューティングなどで海外出張の可能性がございますが、常態化しているものではなく、...
求める人材 【必須】
■ソフトウェアの評価または保守経験をお持ちの方(学生時代の経験でも可)
【歓迎】
■何かしらのソフトウェア仕様作成、C言語を用いたプログラミング、ソフトウェアテスト経験
■電子ビームもしくは光を用いたパターン検出に関する知見
■電子/光検出回路の設計、画像処理技術、ノイズ低減の経験
■基礎的な統計学能力、装置/機械/システムの状況を数値解析など利用し、定量的に比較検討できるようなスキル

給与・待遇

給与 400万円~
※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします 担当クラス420~730万 主任クラス670~940万 管理職クラス1070~1500万
雇用・契約形態 正社員
募集ポジション 【横浜/第二新卒歓迎】電子ビームマスク描画装置の電子ビーム自動調整ソフトウェア開発【A-21】
待遇・福利厚生 健康保険 厚生年金 雇用保険 労災保険 介護保険 企業年金通勤手当全額支給、家族手当、役職手当、35歳までの独身借上社宅制度・世帯向け借上社宅制度有り、厚生施設、社内食堂、財形貯蓄制度、持株制度、退職金制度

勤務時間・休日

勤務時間 08:45~17:30
休日・休暇 完全週休二日制(土日)、祝日、年次有給休暇(初年度 入社時1~19日(入社月による)※最大24日 繰り越し含め最大48日)、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

その他

選考プロセス 面接2回、書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定

企業情報

企業名 株式会社ニューフレアテクノロジー
設立 2002年8月
従業員数 799名
資本金 64億8600万円
事業内容 <<最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス>> ★半導体の未来をリードし続けます ◆電子ビームマスク描画装置:5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置 ◆マスク検査装置:最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置 ◆エピタキシャル成長装置:数μmから150μm以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置(パワー半導体の製造工程に使用されます) 【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカ...

この求人情報は、「株式会社メイテックネクスト」が取り扱っています

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