半導体分野への転職は「半導体転職ナビ」にお任せ下さい

powered by   2024/11/16 更新
閲覧済み

研究開発(超純水製造・電子産業向け)【プライム/業界最大手】 栗田工業株式会社

掲載開始日:2024/11/12
更新日:2024/11/13
ジョブNo.241112MN81117968
職種 研究開発(超純水製造・電子産業向け)【プライム/業界最大手】
社名 栗田工業株式会社
業務内容 「研究開発(超純水製造・電子産業向け)【プライム/業界最大手】」のポジションの求人です
【職務内容】
■イオン交換樹脂を用いた脱イオン試験
■μCDIを使った新規CDIの開発とその先導
■現場試験による既存装置の課題抽出とそれを解決する新規純水装置の開発

【魅力】
加速度的に成長を続ける世界の半導体産業をお客様としており、半導体産業における最先端の技術課題にチャレンジすることができます。
先端半導体の生産性向上に必須となる「水」の製造を通して、社会環境に貢献することができる非常にやりがいのある仕事です。

【募集背景】
(1)同社オリジナルのCDIの開発が必要である一方、CDIでの水処理技術に関する専門家が不足している。
(2)活況である半導体産業顧客の課題をより迅速に解決すべく、当該分野の研究開発(シリコンウェハの洗浄・表面改質及び解析技術に関する専門研究)が不足している。
上記2点の課題感がある当部において、適性に合わせて配属を考える想定です。

【組織構成】
電子産業事業部 デジタルエンジニアリング部門 
部長1名(40代)、課長1名(40代)
開発部 第一チーム
課員 6名(40代2名 30代2名 20代1名)
開発部 第二チーム
8名 (40代3名、30代3名、20代2名)

【部署ミッション】
開発部第一チーム
1)電子産業向けソリューション技術の深耕と開発
2)一次純水、超純水製造技術の深耕とシステム開発

開発部第二チーム
1) 半導体製造顧客向けのソリューション技術の深耕と開発
2) シリコンウェハを主とする洗浄/表面改質技術の基盤深耕(社外団体・企業との共同研究推進)

【働き方】
実験などが主のため、基本的には出社がメイン:平均的に、出社は4~5日程度/週
在宅勤務は0~1日程度/週
また、実際の納入の時期などはお客様先に出向き、現場にて作業・データ取得を行っていただくこともございます。
※1プロジェクトは1年程度ですが、一度の出張期間は数日~長くても3週間程度です。

【英語について】
現状はアジアの顧客が中心のため英語を使う頻度は少ないですが、英語能力が高いメンバーは大歓迎です。
求める経験 【必須要件】
■超純水製造システムに関する技術、顧客現場での現場試験の経験
以下がスキル・ご経験の具体的なイメージです。
・イオン交換樹脂・CDI・ROいずれかの研究/開発経験及び知見
・ウェットプロセス技術携わられたご経験
・ウェハ表面分析のご経験(XPS/SEM/AFM/SIMS)

【歓迎要件】
■半導体製造装置の技術営業の経験
■水処理会社での設計や技術開発の経験
■海外企業やコンソーシアムとの協業経験
■語学力(英語):英語による業務遂行経験
勤務地
東京都 代官山1-4-1Kurita Innovation Hub
年収 年収 650 ~ 1200 万円
経験・スキルに応じて変動の可能性があります
勤務時間 08:45~17:15
休日・休暇 完全週休二日(土日)5月1日、夏季、年末年始、創立記念日、慶弔休暇、年次有給休暇(初年度10日)他
募集背景 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。
雇用形態 正社員

この求人情報は、「株式会社パソナ」が取り扱っています

この情報を保有しているコンサルタントへ紹介を受けるには、マイナビスカウティングに会員登録が必要です。

応募登録いただくにあたり

にご同意いただき、マイナビスカウティングに応募情報を開示することをご了承の上登録ください。