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半導体成膜装置の成膜プロセス(レシピ)開発 社名非公開

掲載開始日:2024/12/24
更新日:2024/12/25
ジョブNo.241224MN80915619
職種 半導体成膜装置の成膜プロセス(レシピ)開発
社名 社名非公開
業務内容 【業務内容】
〇エピタキシャル半導体製造装置開発の中で、実際にプロセス(成膜)を行っていただきます。
(1)シリコン、GaN、SiC膜のプロセス方法の開発
(2)装置の開発、メンテナンス、トラブル対応
(3)プロセスに関する客先での装置立上、客先でのプロセス支援

【職場や職務の魅力】
・現在会社としてエピタキシャル半導体製造装置開発に非常に注力し開発に投資しております。
・アメリカの大手半導体メーカーが売上の大半を占め、米中の規制などの影響も受けにくく非常に安定した業績を誇り半導体業界特有の浮き沈みにも影響されません。
・燃料電池車や電車での使用が始まり、省エネで注目されているパワー半導体を主とした製造装置の運転、メンテナンス業務です。 燃料電池車、電車に始まり、様々な電子機器の一部として、省エネルギー化の鍵を握っているパワー半導体が注目されています。パワー半導体の製造には、最先端の技術を持つ製造装置の存在が欠かせません。その装置を実際に運転やメンテナンスを通して成膜方法や装置技術を習得できます。
求める経験 【必須要件】
・半導体製造装置(CVD装置)での成膜経験がある方。
・長期出張(国内外)が可能な人。
※応募の際は証明写真必須となります。

【WANT】
・半導体製造装置(CVD装置)で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方。
・英語でのコミュニケーションが可能な方。
勤務地
神奈川県 詳細につきましてはご面談時にお伝え致します
年収 経験・スキルに応じて変動の可能性があります
勤務時間 08:45~17:30
休日・休暇 完全週休二日(土日)※年に1回土曜出社有 祝日 夏季休暇 年末年始休暇 有給休暇 慶弔休暇
募集背景 増員のための募集になります。詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。
雇用形態 正社員

この求人情報は、「株式会社パソナ」が取り扱っています

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