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物理蒸着法 に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 大阪府大阪市淀川区西中島 5-8-3 新大阪サンアールビル北館 10F |
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| 年収 | 700万円～900万円 賞与は、業績（会社・個人）に応じて支給 OnTarget の場合、トータル 45 万円～60 万円くらい |
| 業務内容 | 【担当業務】 ・半導体製造 CVD 成膜及びエッチング装置のハードウェア立上げ・技術サービス業務 【プラズマテクノロジー事業部とは】 オックスフォード・インストゥルメンツ（本社 UK）は極低温、高磁場、核磁気共鳴・X 線・電子・光... |
| 求める経験 | 【必須】 ・半導体装置市場における装置立ち上げ経験 ・装置に関連する電気回路や、プロセスチャートフローなど、関連するハードウェア及びプロセス技術に関するデータを装置付帯ドキュメント等から読み解くことができること ・装置 UI に対する... |
| 勤務地 | 東京都八王子 |
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| 年収 | 600万円～900万円 条件はご経験・能力に応じて個別に提示いたします。 |
| 業務内容 | 【業務内容】 ■2022年にグループとなったPicosunブランド製品のカスタマーエンジニア業務をお任せ致します。 ■顧客の要望に応じ、顧客先に導入されているPicosun製装置（ALD：成膜装置）の保守・保全業務やトラブルシューティン... |
| 求める経験 | 【必須】 ■工作機械や精密機械などのトラブルシューティング経験 ■自動車運転免許 ■TOEIC 650（読み書きレベル） 【歓迎】 ■半導体経験者（必須） ALD、PVD、CVD、もしくはその他真空機能を有する装置のメンテナン... |
| 勤務地 | 静岡県裾野市須山1220-14 |
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| 年収 | 450万円～800万円 ※条件は、経験・年齢・能力を考慮して優遇。なお、上記金額には時間外手当を含んでおりません。■昇給：年1回、賞与：年2回（3月、9月）前年度実績5.75ヶ月 |
| 業務内容 | 半導体スパッタリング装置の開発に関わるお仕事になります。 【具体的には】 ・半導体製造装置（スパッタリング）開発におけるサブリーダー ・開発課題の納期短縮のための解決策をリーダーへ提案 ・ハードウエアの設計指針の決定および事業部... |
| 求める経験 | ■必須要件 ・半導体デバイス用スパッタリング装置、技術、プロセスに関する 基礎および応用知識のある方 ・半導体デバイス用スパッタリング装置、技術、プロセス開発の 経験がある方 ・運転免許証（通勤のために必要） ... |
| 勤務地 | 山形県鶴岡市宝田1-11-73 |
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| 年収 | 450万円～900万円 ※能力・経験等考慮の上、当社規定により決定 ※下記年収例は業績給標準評価、超過勤務手当30h含む【年収例】795万円／係長・専門家レベル、649万円／上級担当者レベル、482万円／初級担当者レベル |
| 業務内容 | 【業務内容】 CMOSイメージセンサーのウェーハプロセス（Lithography、DRY、CVD、PVD、CMP、WET、METAL、Ion Impla、HOT工程等）の安定性、コスト、生産性を考慮した量産技術開発や装置立上げ、条件出し、... |
| 求める経験 | 【必須】 ・半導体デバイス／装置メーカーでの半導体プロセス開発の経験 ・半導体装置メーカーでのフィールドサポートやプロセス技術全般の経験 【歓迎】 ・Lithography工程プロセス開発の経験 ・CMOSのプロセス開発の経験... |
| 勤務地 | 大分県大分市大字松岡3500番地 |
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| 年収 | 450万円～900万円 ※能力・経験等考慮の上、当社規定により決定 |
| 業務内容 | 【業務内容】 CMOSイメージセンサーのウェーハプロセス設計に従事いただきます。 ※Litho、DRY、CMP、CVD、PVD、WET、IonImpla工程など。 ソニーの製品を支え、シェアトップクラスを誇る製品に携わります。 ... |
| 求める経験 | 【必須】 ・エンジニアとしてソニーのものづくりに携わりたいという熱い思いをお持ちの方 ・高校卒以上 【歓迎】下記いずれかのご経験をお持ちの方 ・半導体デバイス/装置メーカーでの半導体プロセス開発の経験 ・半導体装置メーカーでの... |
| 勤務地 | 熊本県菊池郡菊陽町原水4000-1 JR豊肥本線「原水」駅より車で6分 勤務地変更の範囲：勤務地からの変更はなし |
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| 年収 | 年収:400万～800万程度 月給制：月額220000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 ※※上記想定年収には30時間相当分の残業代を含む 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社の半導体工場にて生産設備の開発や導入などをお任せします。 【職務詳細】 具体的には以下業務などをお任せします。 ・半導体ウェーハ工程の生産設備の開発／導入 （DRY／DIFF／CVD／PVD／WET工程等） ... |
| 求める経験 | 【必須】 ・機械や電気の知識を基にした設備保全や修理の経験 ・メーカーでの生産設備改善・開発、立上げ・保守の経験 ・フィールドサポートや生産プロセス技術全般の経験 【尚可】 ・半導体ウェーハ生産設備の改善／開発の経験 ・ウェ... |
| 勤務地 | 熊本県菊池郡菊陽町大字原水4000-1 JR豊肥本線「原水」駅より車で9分 勤務地変更の範囲：勤務地からの変更はなし |
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| 年収 | 年収:450万～900万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社の製造技術職をお任せします。 【職務詳細】 半導体ウェーハ工程の生産設備（DRY・DIFF・CVD・PVD・WET・工程等）の開発・導入、生産性改善、歩留まり改善や生産Capa構築（設備導入・立上げ）、コストダウ... |
| 求める経験 | 【必須】※下記いずれか必須 ・機械や電気の知識を基 にした設備保全や修理の経験 ・メーカーでの生産設備改善・開発、立上げ・保守の経験 ・フィールドサポートや生産プロセス技術全般の経験 【尚可】 ・半導体ウェーハ生産設備の改善・... |
| 勤務地 | 熊本県菊池郡菊陽町大字原水4000-1 JR豊肥本線「原水」駅より車で9分 勤務地変更の範囲：勤務地からの変更はなし |
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| 年収 | 年収:420万～900万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【お任せする業務】 ・各工程におけるプロセス開発業務。具体的には新規デバイスのプロセス条件確立や量産開発における歩留向上、特性改善、生産性改善などの各種業務を実現していっていただきます。加えて次世代要素技術開発にも携わっていただきます。 ... |
| 求める経験 | 【必須】 ・半導体プロセス（前工程）エンジニアの経験 ・下記いずれかのスキル Litho・DRY・CVD・めっき・PVD・DIFF・LP-CVD・IMPLA・CMP・接合・WETの使用経験 【尚可】 ・半導体ウェーハ業界での... |
| 勤務地 | 東京都板橋区蓮沼町75-1都営三田線「本蓮沼」駅より徒歩10分 |
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| 年収 | 年収:700万～1100万程度 月給制：月額450000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（7月、12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社にて、光学素子・要素技術開発をお任せします。 【職務詳細】 ■対象：光学素子・要素 ■範囲：技術トレンド調査～不良品分析 【具体的には】 ・技術トレンド調査 ・試作品の設計・開発 ・量産設計品の設計... |
| 求める経験 | ※必須および歓迎スキルが多岐にわたるため、すべてを保有していなくても問題ございません。あくまでこのようなイメージとしてお受けください 【必須】 ・薄膜（PVD）に関する知識（真空成膜装置の操作経験および基礎知識、薄膜の評価・分析技術） ... |
| 勤務地 | 静岡県裾野市須山1220-1JR御殿場線「岩波」駅より車で13分※車通勤可 |
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| 年収 | 年収:450万～800万程度 月給制：月額321428円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（3月、9月）前年度実績5.75ヶ月 昇給:年1回（7月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社にて、研究開発（高周波回路技術者）をご担当いただきます。 【職務詳細】 ・半導体製造装置（スパッタリング）開発における、 数MHz～マイクロ波の高周波回路の設計・評価 ・事業部および海外の研究所メンバーと密... |
| 求める経験 | 【必須】 ・真空装置を用いた薄膜形成、もしくは加工技術に伴う高周波（RF）、電気回路に関する基礎知識（スミスチャートが見られる） ・普通自動車第一種運転免許 【尚可】 ・真空装置（PVD、CVD）の取り扱い経験 ・真空装置メ... |