フォトマスク|ガラス乾板|レチクル に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 技術開発と生産技術の両面で、リソグラフィ、エッチング、洗浄工程のいずれかを中心に業務にあたっていただきます。 【具体的には】 ※技術開発と生産技術の両方をご対応いただきます。 ・技術開発 先端フォトマスク技術開発... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体、MEMS、電子部品の生産技術もしくはプロセスエンジニア経験 【尚可】 ・リソグラフィー、レジストやエッチング工程の知識。 ・微細加工の経験（半導体そのものでなくても、液晶や材料などで関連する知見のあ る方） ... |
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：勤務地からの変更はなし |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 新技術の実用化などの技術開発と生産工程の生産性向上などの生産技術の両面で、検査・修正・保証エンジニアとして業務にあたっていただきます。 【職務詳細】 ※技術開発と生産技術の両方をご対応いただきます。 ・技術開発... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体や液晶などの電子部品・デバイス産業業界で技術開発や生産技術経験 【尚可】 ・半導体製造工程の知識。 ・半導体、電子部品等の検査、保証技術開発の経験。 ・AI等プログラミング関連のスキル・経験。 ・ビジネスレベ... |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社のアプリケーションエンジニアとして下記業務をお任せします。 【職務詳細】 半導体向けフォトマスクの開発及び生産技術、設備技術 【具体的には】 アプリケーションエンジニア（フォトマスクの新製品立ち上げリーダ... |
| 求める経験 | 【必須】 ・技術的なバックグラウンド（電機）を有し、顧客先対応やプロジェクトマネジメントのご経験をお持ちの方 ・顧客対応が可能な英語力（TOEIC650点以上が目安） 【尚可】 ・フォトマスクや露光工程に関わる技術的な知識 ・... |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～600万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社にて研究開発業務をお任せします。 【職務詳細】 ■製品：先端マスク及びナノインプリント ■範囲：材料開発～技術移管 【具体的には】 ■先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開... |
| 求める経験 | 【必須】 ・研究開発業務経験者・研究開発業務に興味がある方 ・チーム内及び他部署との連携スムーズに行える方 ・海外と関わりのある業務に積極的、少なくとも抵抗が無い方。 【尚可】 TOEIC500点以上 |
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、シリ... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体、MEMS、電子部品の生産技術もしくはプロセスエンジニア経験。 【尚可】 ・新製品の開発に関わりたい方 ・生産技術・プロセスの知見を活かして顧客に提案していきたい方 |
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
|---|---|
| 年収 | 年収:450万～800万程度 月給制：月額375000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。 ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、... |
| 求める経験 | 【必須】 ・工学部、理学部の学科を専攻された方 ・新製品(ARグラスやナノインプリント向け)のモールド開発に関わりた い方 ・コミュニケーションを通じて共に成長を志向される方 【歓迎】 ・半導体、MEMS、電子部品のプロセスエン... |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での生産技術、設備技術に関する業務です。 【職務詳細】 ■製品：半導体用フォトマスク ■範囲：検査・修正、... |
| 求める経験 | 【必須】 下記いずれか2つ必須 ・生産技術経験 ・TOEIC500点以上 ・プログラミング経験 【尚可】 ・リソグラフィー、レジストやエッチング工程の知識。 ・微細加工の経験 ・品質改善活動や、AI等プログラミング関連の... |
| 勤務地 | 神奈川県内 ※お客様先により異なる ※プロジェクト先により異なる 勤務地変更の範囲：取引先(案件先)の勤務地により異なる |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～600万程度 月給制：月額220000円 給与:230,000円～ ／月 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 半導体関連装置の保守・メンテナンスをお任せします。 対象となるマスクブランクスとは低膨張ガラス基板の表面に膜を積層したフォトマスクの原板で、半導体製造プロセスで重要な役割を担います。最先端の技術に関わるポジションとなります... |
| 求める経験 | 【必須】 ・何らかの技術系経験をお持ちの方 ※整備士・製造オペレーター歓迎 ・海外出張業務にご興味のある方 【尚可】 ・半導体業界での業務経験をお持ちの方 ・外国籍特に台湾、中国ご出身の方も歓迎 |
| 勤務地 | 京都府 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
|---|---|
| 年収 | 年収:400万～850万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 ・通信モジュール向けの高周波フィルタ（主にSAWフィルタ）の開発をお任せします。 【職務詳細】 ・開発商品の要件すり合わせ（主に社内協業部門と実施） ・高周波回路シミュレータを用いた特性検討 ・設計結果に応じた図... |
| 求める経験 | 【必須】 ・SAW／BAWデバイスの知識や開発・設計経験を有している方 ・本業種での業務経験 【尚可】 ・高周波回路の設計経験がある方 ・高周波回路設計用のソフトウェアを使った業務経験がある方(例：keysight製：ADS、... |
| 勤務地 | 兵庫県加古川市野口町水足179-15 JR山陽本線「加古川」駅より車8分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
|---|---|
| 年収 | 年収:414万～720万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月・12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 ・新製品の調査、開発、設計、試作 新工法 ・新製法の開発、設計 ・設備開発 ※業務が多岐にわたるため、未経験作業・業務については随時教育を行います。 【職務詳細】 ・水晶振動子、水晶発振器を中心とした新製品開発... |
| 求める経験 | 【必須】 ・社会人経験 ・大卒以上 ・普通自動車第一種運転免許 ・Excelによる簡単なデータ処理 ・理系業務経験者 【尚可】 (1) 水晶デバイスの設計、開発スキル (2) フォトリソグラフィー技術を用いた設計、開発ス... |