【横浜】プロセス開発エンジニア（成膜） ※エピタキシャル成長装置 株式会社ニューフレアテクノロジー
| 職種 | 【横浜】プロセス開発エンジニア（成膜） ※エピタキシャル成長装置 |
|---|---|
| 社名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
| 業務内容 |
エピタキシャル半導体製造装置開発の中で、実際にプロセス（成膜）を行っていただきます。 (1) シリコン、GaN、SiC膜の成膜方法（レシピ）の開発と測定機による評価 (2) 装置の開発、客先でのデモンストレーション、メンテナンス、トラブル対応 (3) プロセスに関する客先でのプロセス仕様打合せ、装置立上、客先でのプロセス支援 【配属部署】 TFW装置技術部 研究開発グループ |
| 求める経験 | 【必須】 ■長期出張（国内外）が可能な人で下記いずれかのご経験 ・学生時代に成膜や結晶化等のご経験がある方 ・半導体製造装置（CVD装置）での成膜経験がある方 【歓迎】 ・半導体製造装置（CVD装置）で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方 ・英語に抵抗のない方 |
| 勤務地 |
神奈川県
|
| 年収 |
400万円～1100万円 ※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします |
| 勤務時間 | 08:45～17:30 |
| 休日・休暇 | 完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度 入社時1～19日（入社月による）※最大24日 繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度 |
| 福利厚生 | 健康保険 厚生年金 雇用保険 労災保険 介護保険 企業年金通勤手当全額支給、家族手当、役職手当、35歳までの独身借上社宅制度・世帯向け借上社宅制度有り、厚生施設、社内食堂、財形貯蓄制度、持株制度、退職金制度 |
| 雇用形態 | 正社員 |
| 選考プロセス | 面接2回、書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定 |
この求人情報は、「株式会社メイテックネクスト」が取り扱っています
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