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微細化 に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 熊本県 |
|---|---|
| 年収 | ～1200万円 ※過去実績：基本給＋地域手当＋賞与＋時間外手当 28歳…750万、36歳…930万 |
| 業務内容 | 【職務内容】 半導体製造装置のプロセス開発・要素開発および実験などの一連の業務を担当いただきます。 また、自社製品の性能評価、改善業務、お客さまのニーズを踏まえた装置性能の実証業務なども行います。 具体的には以下の工程に関わる装置を担... |
| 求める経験 | 社会人経験がおおよそ1年以上ある方で、化学もしくは電気系の専攻の方 加えて以下、いずれかの経験・知見をお持ちの方 ※半導体プロセスエンジニア経験は不問、第二新卒歓迎 ・半導体業界にチャレンジしてゆきたい方 ・半導体フォトリソグ... |
| 勤務地 | 大阪府 |
|---|---|
| 年収 | 500万円～900万円 【年収例】670万円/33歳(既婚、子一人)34万/月+賞与(業績により) |
| 業務内容 | 【担当製品】 ■超微細フレキシブル回路基板 【職務内容】 ■セミアディティブプロセスをベースとした微細配線形成プロセスの要素技術開発 【入社後まずお任せしたい業務】 ■世の中にない新規フレキシブル回路基板の開発に向けて、微... |
| 求める経験 | 【必須（MUST）】 ■以下のいずれかの経験を有する技術者の方 ・フォトリソグラフィ、セミアディティブプロセス、電解めっきプロセスの経験 ・フォトレジスト、感光性絶縁材料に関わる技術開発の経験 ・フレキシブル回路基板、半導体パッケー... |
| 勤務地 | 神奈川県 |
|---|---|
| 年収 | 400万円～ ※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします 担当クラス420～730万 主任クラス670～940万 管理職クラス1070～1500万 |
| 業務内容 | 【募集背景】 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。 微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化にむけ、電子... |
| 求める経験 | 【必須】 ■ソフトウェアの評価または保守経験をお持ちの方（学生時代の経験でも可） 【歓迎】 ■何かしらのソフトウェア仕様作成、C言語を用いたプログラミング、ソフトウェアテスト経験 ■電子ビームもしくは光を用いたパターン検出に関する知... |
| 勤務地 | 神奈川県 |
|---|---|
| 年収 | 420万円～940万円 ※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします |
| 業務内容 | 次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務をお任せいたします。 マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する業務となります。 ... |
| 求める経験 | 【必須】いずれか必須 ・学生時代に力学、電磁気学、数学の知見を用いた研究経験や、業務経験をお持ちの方 ・光学設計の経験をお持ちの方 |
| 勤務地 | 愛知県 |
|---|---|
| 年収 | 550万円～1000万円 ※前職の給与を考慮の上、当社規定で決定致します ※モデル年収...大学卒30歳 669万円／月給33万円（扶養家族2名の家族手当・住宅手当・残業25h/月込み） |
| 業務内容 | 【業務】新製品の事業化実現に向け、最先端半導体露光装置用の新規部材開発業務に従事して頂きます。特に薄膜の作成評価を中心に、外部コンサルやお客様との打ち合わせなども行いながら、技術検討や製品開発を担当頂きます。 【詳細】 ■最先端露光装置... |
| 求める経験 | 【必須】 ■薄膜に関する全般的な知識、半導体やMEMSの基礎知識、フォトリソグラフィー技術に関する知識、LSIデバイスやLSIパッケージなどに関する知識をお持ちの方 ■新製品の技術開発のご経験 ■英語力（文献の読解力、学会やセミナーの... |
| 勤務地 | 埼玉県 |
|---|---|
| 年収 | 400万円～700万円 |
| 業務内容 | ■半導体向けフォトマスクの開発及び生産技術、設備技術を担当していただきます。 ・新技術の実用化、特にEUVマスクの技術開発と生産工程のプロセス見直しなどの生産技術の両面で、プロセスエンジニアとして業務にあたっていただきます。お持ちの専門領... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体や液晶などの電子部品・デバイス産業業界で技術開発や生産技術経験のある方。 【歓迎】 ・EUV関連技術、リソグラフィー、レジスト、エッチング工程などの知識。 ・プロセス改善、品質改善、AI等プログラミング関連のスキ... |
| 勤務地 | 埼玉県 |
|---|---|
| 年収 | 400万円～800万円 |
| 業務内容 | 【具体的には】 ・電子線リソグラフィ(スポットビーム機)の要素技術開発 ・ドライエッチング(メタルエッチング、イオンビームエッチング等)の要素技術開発 ・要素技術を統合した顧客向け試作開発やプロセスインテグレーション ・SEMやAF... |
| 求める経験 | 【必須】 ・新製品(ARグラスやメタレンズ)の開発に関わりたい方 【歓迎】 ・半導体、MEMS、電子部品のプロセスエンジニア経験 ・光学製品に関連する知識を有する方(例：光学レンズや回折光学 等) |
| 勤務地 | 埼玉県 |
|---|---|
| 年収 | 400万円～800万円 |
| 業務内容 | 【具体的には】 ・ナノインプリントリソグラフィの要素技術開発（NIL材料、レプリカ材料、離型剤、プロセス） ・ナノインプリントリソグラフィの試作ラインの立ち上げ ・立ち上げ後の生産性改善 ・要素技術を統合した顧客向け試作開発 ... |
| 求める経験 | 【必須】 ・新製品(ARグラスやナノインプリント向け)のモールド開発に関わりたい 方 【歓迎】 ・半導体、MEMS、電子部品のプロセスエンジニア経験 |
| 勤務地 | 新潟県 |
|---|---|
| 年収 | 400万円～650万円 モデル年収/参考（20残込）：20代450-550万 30代550-700万 40代700万以上 |
| 業務内容 | お客様の製造工場における製造プロセス開発・生産技術の要素技術開発をお任せします。 具体的には、新規開発、品質向上、生産性向上、コスト削減等、「自社システム」や「データベース」を駆使し、顧客課題を解決する「ソリューション」を提案して頂きます... |
| 求める経験 | 【必須】※応募時には顔写真データも必要となります 下記いずれかに当てはまる方。 ・電気/電子/化学/機械・材料などの理工系学部を卒業された方 ・生産技術・プロセス技術に携わった経験をお持ちの方 【歓迎】 ・電子デバイスの生産技... |
| 勤務地 | 神奈川県 |
|---|---|
| 年収 | 400万円～1500万円 ※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします 担当クラス420～730万 主任クラス670～940万 管理職クラス1070～1500万 |
| 業務内容 | 【募集背景】 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。 微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化にむけ、電子... |
| 求める経験 | 【必須】 ■以下、いずれかのスキル・経験をお持ちの方 ・何かしらのソフトウェア仕様作成、C言語を用いたプログラミング、ソフトウェアテスト経験 ・電子ビームもしくは光を用いたパターン検出に関する知見 ・電子/光検出回路の設計、画像処理... |
