電子光学設計＜電子ビームマスク描画装置＞ ニューフレアテクノロジー
| 企業名 | ニューフレアテクノロジー |
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| 年収 | 700万円 〜 1600万円 |
| 勤務地 |
神奈川県/横浜市磯子区/新杉田町8番1
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| 職種 | 電子光学設計＜電子ビームマスク描画装置＞ |
| 業種 | プラント・エンジニアリング業界の光学設計 |
| ポイント | ■日系の最先端半導体製造装置メーカーです。 |
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正社員
転勤無し年間休日120日以上英語を使う仕事社宅・家賃補助制度資格取得支援制度
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募集要項
| 仕事内容 |
■電子ビームマスク描画装置における新規光学設計をご担当いただきます。 【具体的には】 ・次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討の実施。 ・光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務。マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討。 ・広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計を実施（リーダー候補） 【職場や職務の魅力】 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。 フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。 また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込となっています。 次世代装置としては、より高い描画精度が求められる為、高機能な光学設計を組み込むことが、次世代装置開発に求められる課題となります。 その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。課題解決への道筋がつけられない際は、経験豊富なベテラン光... |
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| 求める人材 | 【必須要件】※以下いずれかご経験をお持ちの方 ■学生時代に力学、電磁気学、数学の知見を用いた研究経験や、業務経験をお持ちの方 ■光学設計の経験をお持ちの方 【歓迎要件】 ■電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などの経験者 ■荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの経験者 ■技術文書、論文などの英語（主に読解）に抵抗が少ない方。 ■光学ツールの使用経験（Optics等） ■電子顕微鏡等（SEMやTEM）を手動で調整した経験のある方 |
給与・待遇
| 給与 |
400-1100万円 ※諸手当、福利厚生は雇用形態等諸条件により、適用外の場合があります。詳しくはコンサルタントまでお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 雇用・契約形態 | 正社員 |
| 募集ポジション | 電子光学設計＜電子ビームマスク描画装置＞ |
| 待遇・福利厚生 |
健康保険（東芝健康保険組合）、雇用保険、労災保険、厚生年金 通勤手当、住宅手当、資格手当、時間外手当、福利厚生支援制度：教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり |
勤務時間・休日
| 勤務時間 | 08:45 - 17:30（コアタイム：00:00 - 00:00） |
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| 休日・休暇 | 年間128日／（内訳）完全週休2日制（土・日）、祝日、夏期休暇、年末年始、有給休暇（初年度入社1?19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日）、慶弔休暇、特別休暇、リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得、育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 |
その他
| 選考プロセス | 【筆記試験】有（一次選考後に適性検査を受験いただきます） 【面接回数】2回 【選考フロー】一次選考（人事担当、部門担当）→最終選考（役員） |
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企業情報
| 企業名 | ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 事業内容 | 【概要・特徴】 東芝デバイス＆ストレージ（株）100％子会社の半導体装置専業メーカー。2002年に東芝機械（株）から半導体装置事業を継承して以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の設計、開発、製造、販売、保守を行なっています。電子ビームマスク描画装置は、LSI（大規模集積回路）製造工程に必要なことから定期的に機器の入れ替えがあるため、半導体業界のシリコンサイクルに影響されることのない安定した需要が見込まれています。 【強み】 世界トップレベルの描画精度を有しており、電子ビームマスク描画装置の世界シェア1位（90％以上）であることが強み（自社調べ）。半導体の多くが同社の電子ビームマスク描画装置を使って量産されており、半導体市場を支えています。また、2030年には世界の半導体市場規模は1兆ドルを超す見込みで、2024年度の日本製半導体製造装置の販売額は4兆円を超え、過去最高を更新する見込みなど、市場も活況をみせています。 【技術力】 電子ビームマスク描画装置第1号機の開発を基点に、最先端デバイス用の回路パターンをフォトマスク上に高速・高精度で描画できる電子光学系を自社で開発しました。現在は、電子ビームをナノメーター単位で制御し、東京タワーから富士山頂にある1.6ｍｍの的を射抜くほどの高精度なレーザー技術を有しています。 |
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