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化学蒸着法 に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 |
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| 年収 | 600万円～900万円 【年収例】670万円/33歳(既婚、子一人)34万/月+賞与(業績により) |
| 業務内容 | 【担当業務/役割】 ■フレキシブル基板や薄膜デバイスなどを想定した微細配線技術の新規プロセス開発を担当頂きます。 ■具体的にはフォトリソグラフィ技術、めっき技術、エッチング技術などの新規技術導入、技術確立と、それらの量産を想定したスケー... |
| 求める経験 | 【必須】※以下いずれかのご経験を有する方 ■フォトリソグラフィに関わる技術開発、製品開発の経験 ■めっき技術、エッチング技術に関わる材料、およびプロセスの技術開発経験 【歓迎（WANT）】 ■露光、レジスト、めっき、エッチング、... |
| 勤務地 | 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500 |
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| 年収 | 550万円～850万円 ※条件は、経験・年齢・能力を考慮して優遇。なお、上記金額には時間外手当を含んでおりません。■昇給：年1回、賞与：年2回(6月、12月) |
| 業務内容 | ■ドライエッチング、またはCVD装置のハード開発・評価 【具体的には】 ・装置コンポーネントの提案・開発 |
| 求める経験 | 【必須】 ■電気回路の知識(大学卒程度) ■プラズマ生成(または、プラズマ診断)に関する基本理解 【歓迎】 ■ケミカル系装置の経験があるエンジニア■産業装置の設計・開発の経験がある方■高周波プラズマに関する知識(大学卒程度)■ドライ... |
| 勤務地 | 滋賀県野洲市大篠原2288番地 |
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| 年収 | 500万円～850万円 経験と能力等を考慮し当社規定により優遇いたします。 ■昇給年１回（４月） 賞与年２回（６月・１２月） |
| 業務内容 | スマートフォン市場向け通信用半導体製品の製造技術を行なっていただきます。 ・新規半導体商品の量産立ち上げ ・EMSとの連携によるプロセス改善 ・薄膜微細加工が必要な新規開発商品のプロセス開発 ・半導体商品の構造解析とその結果検討... |
| 求める経験 | 【下記何れかの経験の方】 ・CVD、スパッタや蒸着による薄膜成膜、フォトリソ・エッチングなどの薄膜微細加工プロセスの開発経験や製造に関する知見をお持ちの方 ・Si系半導体プロセスの開発経験や製造に関する知見をお持ちの方（RFスイッチIC... |
| 勤務地 | 神奈川県川崎市麻生区栗木2丁目7-2 |
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| 年収 | 600万円～800万円 ※経験・能力を考慮し、規定により決定致します。 |
| 業務内容 | 半導体製造装置(プラズマCVD/プラズマALD-薄膜形成装置)を開発している外資系企業です。その中で、計測機器の技術者として、オーダーメイドの半導体製造装置の計測向上に携わっていただきます。 【具体的には】■装置のハードウェアやソフト... |
| 求める経験 | 【必須】■計測技術者または装置技術者としての経験 ★半導体プロセスおよびデバイス製造に関する基本的な理解がある方は活かすことができます。 ■英語力（会話重視）をお持ちの方 【当社の強み】顧客要求に基づき、全てオーダーメイド・カスタマイ... |
| 勤務地 | 神奈川県川崎市麻生区栗木2丁目7-2 |
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| 年収 | 600万円～800万円 ※経験・能力を考慮し、規定により決定致します。 |
| 業務内容 | 半導体製造装置(プラズマCVD/プラズマALD-薄膜形成装置)を開発している外資系企業です。その中で、電気設計者として半導体産業向けのシステムおよび半導体製造装置の電気設計に携わっていただきます。 【具体的には】■マイクロプロセッサ制... |
| 求める経験 | 【必須】■半導体製造装置や設備機器（例：MRI装置など）の電気設計技術者の経験 【当社の強み】顧客要求に基づき、全てオーダーメイド・カスタマイズのため顧客から選ばれています。一般的に外資企業は代理店販売の位置づけですが、当社は日本に開発拠... |
| 勤務地 | 山形県鶴岡市宝田1-11-73 |
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| 年収 | 450万円～900万円 ※能力・経験等考慮の上、当社規定により決定 ※下記年収例は業績給標準評価、超過勤務手当30h含む【年収例】795万円／係長・専門家レベル、649万円／上級担当者レベル、482万円／初級担当者レベル |
| 業務内容 | 【業務内容】 CMOSイメージセンサーのウェーハプロセス（Lithography、DRY、CVD、PVD、CMP、WET、METAL、Ion Impla、HOT工程等）の安定性、コスト、生産性を考慮した量産技術開発や装置立上げ、条件出し、... |
| 求める経験 | 【必須】 ・半導体デバイス／装置メーカーでの半導体プロセス開発の経験 ・半導体装置メーカーでのフィールドサポートやプロセス技術全般の経験 【歓迎】 ・Lithography工程プロセス開発の経験 ・CMOSのプロセス開発の経験... |
| 勤務地 | 大分県大分市大字松岡3500番地 |
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| 年収 | 450万円～900万円 ※能力・経験等考慮の上、当社規定により決定 |
| 業務内容 | 【業務内容】 CMOSイメージセンサーのウェーハプロセス設計に従事いただきます。 ※Litho、DRY、CMP、CVD、PVD、WET、IonImpla工程など。 ソニーの製品を支え、シェアトップクラスを誇る製品に携わります。 ... |
| 求める経験 | 【必須】 ・エンジニアとしてソニーのものづくりに携わりたいという熱い思いをお持ちの方 ・高校卒以上 【歓迎】下記いずれかのご経験をお持ちの方 ・半導体デバイス/装置メーカーでの半導体プロセス開発の経験 ・半導体装置メーカーでの... |
| 勤務地 | 東京都中央区日本橋浜町2丁目28番1号 日本橋・浜町ビル5F |
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| 年収 | ～700万円 ※経験・スキルなどを考慮の上で決定致します。 |
| 業務内容 | 【業務内容】■ダイヤモンド成膜装置（MW-CVD装置）の設計およびフィールドサポート ■装置関係の書類整備 ■装置製造のための支援 ＜詳細＞・電気設計、PLCコーティング、ソフトウェア設計支援 ・装置関係の図面管理、修正作業 ・故障部品の... |
| 求める経験 | ■産業機器の設計経験 ■英語に抵抗の無い方（TOEICスコア500程度） ■国内・海外出張に抵抗の無い方 【歓迎】 □ダイヤモンドの研究に関わったご経験 □英語での業務対応が可能な方 |
| 勤務地 | 大阪府大阪市西区 西本町1丁目13番40号 |
|---|---|
| 年収 | ～700万円 ※経験・スキルなどを考慮の上で決定致します。 |
| 業務内容 | 【業務内容】■ダイヤモンド成膜装置（MW-CVD装置）の設計およびフィールドサポート ■装置関係の書類整備 ■装置製造のための支援 ＜詳細＞・電気設計、PLCコーティング、ソフトウェア設計支援 ・装置関係の図面管理、修正作業 ・故障部品の... |
| 求める経験 | ■産業機器の設計経験 ■英語に抵抗の無い方（TOEICスコア500程度） ■国内・海外出張に抵抗の無い方 【歓迎】 □ダイヤモンドの研究に関わったご経験 □英語での業務対応が可能な方 |
| 勤務地 | 三重県四日市市山之一色町800番地 |
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| 年収 | 500万円～900万円 ※経験・能力・前職を考慮の上、優遇。 |
| 業務内容 | 最先端メモリデバイス開発における微細加工や成膜工程のプロセス、装置改善業務、要素開発業務を担当頂きます。 【次のいずれかの工程を担当】 ・ドライエッチング ・ウェットエッチング（洗浄） ・CMP（平坦化） ・PE-CVD ・LP-C... |
| 求める経験 | ■下記のような理系バックグラウンドをお持ちの方 電気・電子系、化学・物質工学系、物理・応用物理系、数学、 機械、情報 ■半導体に関するエンジニア経験 ■基礎的な英語力 【例えばこんな方】 ・ある特定領域において高い専門... |