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フォトマスク に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 神奈川県内 ※お客様先により異なる ※プロジェクト先により異なる 勤務地変更の範囲：取引先(案件先)の勤務地により異なる |
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| 年収 | 年収:400万～600万程度 月給制：月額220000円 給与:230,000円～ ／月 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 半導体関連装置の保守・メンテナンスをお任せします。 対象となるマスクブランクスとは低膨張ガラス基板の表面に膜を積層したフォトマスクの原板で、半導体製造プロセスで重要な役割を担います。最先端の技術に関わるポジションとなります... |
| 求める経験 | 【必須】 ・何らかの技術系経験をお持ちの方 ※整備士・製造オペレーター歓迎 ・海外出張業務にご興味のある方 【尚可】 ・半導体業界での業務経験をお持ちの方 ・外国籍特に台湾、中国ご出身の方も歓迎 |
| 勤務地 | 京都府 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:400万～850万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 ・通信モジュール向けの高周波フィルタ（主にSAWフィルタ）の開発をお任せします。 【職務詳細】 ・開発商品の要件すり合わせ（主に社内協業部門と実施） ・高周波回路シミュレータを用いた特性検討 ・設計結果に応じた図... |
| 求める経験 | 【必須】 ・SAW／BAWデバイスの知識や開発・設計経験を有している方 ・本業種での業務経験 【尚可】 ・高周波回路の設計経験がある方 ・高周波回路設計用のソフトウェアを使った業務経験がある方(例：keysight製：ADS、... |
| 勤務地 | 山形県鶴岡市大宝寺字日本国271-6 JR羽越本線「鶴岡」駅より車で6分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:450万～800万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:業績による 昇給:年1回（成果による） |
| 業務内容 | 【担当する業務（概要）】 MEMSデバイスの量産設計を担当していただきます 【担当する業務（詳細）】 開発業務は、MEMSデバイス構造設計、デバイス製造技術、デバイス評価技術のいずれか、もしくは全てになります。 研究開発部門から... |
| 求める経験 | 【求めるスキル】 以下1つ以上当てはまる方 ・MEMSデバイスの構造設計経験のある方 ・MEMSデバイスまたは半導体デバイスの作製業務経験のある方 ・MEMSデバイスまたは半導体デバイスの評価業務経験のある方 【歓迎スキル】 ... |
| 勤務地 | 東京都新宿区四谷4-4-1 四谷国際ビル３階 丸ノ内線「四谷三丁目」駅より徒歩5分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:410万～670万程度 月給制：月額237000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 フォトマスクリペア装置に関して、お客様の業務に貢献できる技術サービスを提供いたします。 具体的には以下の業務となります。 【顧客先業務】 ・安定稼動を目的とした予防保全 ・不具合発生時の修理対応 ・新規納入時の... |
| 求める経験 | 【必須】 ・製造装置、精密機器など製品に関するエンジニア実務経験をお持ちの方 ・日本語コミュニケーションの取れる方（N1相当） ・普通自動車運転免許 【尚可】 ・関連装置の使用経験のある方 ・サービスエンジニアの就業経験がある方... |
| 勤務地 | 兵庫県加古川市野口町水足179-15 JR山陽本線「加古川」駅より車8分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:414万～720万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月・12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務概要】 ・新製品の調査、開発、設計、試作 新工法 ・新製法の開発、設計 ・設備開発 ※業務が多岐にわたるため、未経験作業・業務については随時教育を行います。 【職務詳細】 ・水晶振動子、水晶発振器を中心とした新製品開発... |
| 求める経験 | 【必須】 ・社会人経験 ・大卒以上 ・普通自動車第一種運転免許 ・Excelによる簡単なデータ処理 ・理系業務経験者 【尚可】 (1) 水晶デバイスの設計、開発スキル (2) フォトリソグラフィー技術を用いた設計、開発ス... |
| 勤務地 | 神奈川県 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:500万～750万程度 月給制：月額280000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:業績による 昇給:年1回（成果による） |
| 業務内容 | 【職務概要】 研究開発部門にて、MEMSデバイスの設計・開発業務を担当していただきます。各種アプリケーションからの要求事項をデバイス仕様に反映させ、設計・製造・評価を経て実現可能性、量産可能性を検証することが主なミッションとなります。 ... |
| 求める経験 | 【必須】下記いずれか1つ以上のご経験 1.MEMSデバイスの構造設計業務経験 2.MEMSデバイスまたは半導体デバイスの作製業務経験 3.MEMSデバイスまたは半導体デバイスの評価業務経験 【尚可】 ・有限要素法解析（FEM）... |
| 勤務地 | 神奈川県秦野市曽屋400 小田急小田原線「渋沢」駅より車で10分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:450万～800万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:業績により 昇給:年1回（成果により） |
| 業務内容 | 【職務概要】 MEMSデバイスの量産設計を担当していただきます 【担当する業務】 開発業務は、MEMSデバイス構造設計、デバイス製造技術、デバイス評価技術のいずれか、もしくは全てになります。 研究開発部門から技術の移管を受け、量... |
| 求める経験 | 【必須】以下1つ以上当てはまる方 ・MEMSデバイスの構造設計経験のある方 ・MEMSデバイスまたは半導体デバイスの作製業務経験のある方 ・MEMSデバイスまたは半導体デバイスの評価業務経験のある方 【尚可】 ・CADを用いた... |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:400万～600万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社にて研究開発業務をお任せします。 【職務詳細】 ■製品：先端マスク及びナノインプリント ■範囲：材料開発～技術移管 【具体的には】 ■先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開... |
| 求める経験 | 【必須】 ・研究開発業務経験者・研究開発業務に興味がある方 ・チーム内及び他部署との連携スムーズに行える方 ・海外と関わりのある業務に積極的、少なくとも抵抗が無い方。 【尚可】 TOEIC500点以上 |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額333333円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確に対応する半導体用フォトマスク生産会社での業務です。 【職務詳細】 半導体向けフォトマスクの品質保証業務をお任せいたします。 QMSの整備・運営・改善を通じて、品質保証の仕組みを向上させる業務... |
| 求める経験 | 【必須】 ・メーカーでのQMS運営経験またはエンジニア経験（QMS関連知識） ・半導体やISO関連のご経験 【尚可】 ・半導体、電機メーカー、部品メーカー等での品質保証業務経験 ・TOEIC500点以上 ・IATF16949... |
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
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| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、シリ... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体、MEMS、電子部品の生産技術もしくはプロセスエンジニア経験。 【尚可】 ・新製品の開発に関わりたい方 ・生産技術・プロセスの知見を活かして顧客に提案していきたい方 |
