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フォトマスク に該当する転職・求人一覧
| 勤務地 | 東京都新宿区四谷4-4-1 四谷国際ビル３階 丸ノ内線「四谷三丁目」駅より徒歩5分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:410万～670万程度 月給制：月額237000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 フォトマスクリペア装置に関して、お客様の業務に貢献できる技術サービスを提供いたします。 具体的には以下の業務となります。 【顧客先業務】 ・安定稼動を目的とした予防保全 ・不具合発生時の修理対応 ・新規納入時の... |
| 求める経験 | 【必須】 ・製造装置、精密機器など製品に関するエンジニア実務経験をお持ちの方 ・日本語コミュニケーションの取れる方（N1相当） ・普通自動車運転免許 【尚可】 ・関連装置の使用経験のある方 ・サービスエンジニアの就業経験がある方... |
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
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| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、シリ... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体、MEMS、電子部品の生産技術もしくはプロセスエンジニア経験。 【尚可】 ・新製品の開発に関わりたい方 ・生産技術・プロセスの知見を活かして顧客に提案していきたい方 |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
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| 年収 | 年収:400万～600万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 同社にて研究開発業務をお任せします。 【職務詳細】 ■製品：先端マスク及びナノインプリント ■範囲：材料開発～技術移管 【具体的には】 ■先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開... |
| 求める経験 | 【必須】 ・研究開発業務経験者・研究開発業務に興味がある方 ・チーム内及び他部署との連携スムーズに行える方 ・海外と関わりのある業務に積極的、少なくとも抵抗が無い方。 【尚可】 TOEIC500点以上 |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額333333円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確に対応する半導体用フォトマスク生産会社での業務です。 【職務詳細】 半導体向けフォトマスクの品質保証業務をお任せいたします。 QMSの整備・運営・改善を通じて、品質保証の仕組みを向上させる業務... |
| 求める経験 | 【必須】 ・メーカーでのQMS運営経験またはエンジニア経験（QMS関連知識） ・半導体やISO関連のご経験 【尚可】 ・半導体、電機メーカー、部品メーカー等での品質保証業務経験 ・TOEIC500点以上 ・IATF16949... |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
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| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での生産技術、設備技術に関する業務です。 【職務詳細】 ■製品：半導体用フォトマスク ■範囲：検査・修正、... |
| 求める経験 | 【必須】 下記いずれか2つ必須 ・生産技術経験 ・TOEIC500点以上 ・プログラミング経験 【尚可】 ・リソグラフィー、レジストやエッチング工程の知識。 ・微細加工の経験 ・品質改善活動や、AI等プログラミング関連の... |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 |
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| 年収 | 年収:400万～700万程度 月給制：月額250000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 新技術の実用化、特にEUVマスクの技術開発と生産工程のプロセス見直しなどの生産技術の両面で、プロセスエンジニアとして業務をお任せします。 【職務詳細】 ■製品：EUVマスク ■範囲：技術開発～品質改善等 【具... |
| 求める経験 | 【必須】 半導体や液晶などの電子部品・デバイス産業業界で技術開発やプ ロセスエンジニア経験のある方。 【尚可】 ・EUV関連技術、リソグラフィー、レジスト、エッチング工程などの知 識。 ・プロセス改善、品質改善、AI等プログ... |
| 勤務地 | 〒352-8562 埼玉県新座市野火止7-21-33 東武東上線「志木」駅より車で７分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:450万～800万程度 月給制：月額375000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:年2回 昇給:年1回 |
| 業務内容 | 【職務概要】 旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。 ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、... |
| 求める経験 | 【必須】 ・工学部、理学部の学科を専攻された方 ・新製品(ARグラスやナノインプリント向け)のモールド開発に関わりた い方 ・コミュニケーションを通じて共に成長を志向される方 【歓迎】 ・半導体、MEMS、電子部品のプロセスエン... |
| 勤務地 | 神奈川県秦野市曽屋400 小田急小田原線「渋沢」駅より車で10分 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:450万～800万程度 月給制：月額230000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:業績により 昇給:年1回（成果により） |
| 業務内容 | 【職務概要】 MEMSデバイスの量産設計を担当していただきます 【担当する業務】 開発業務は、MEMSデバイス構造設計、デバイス製造技術、デバイス評価技術のいずれか、もしくは全てになります。 研究開発部門から技術の移管を受け、量... |
| 求める経験 | 【必須】以下1つ以上当てはまる方 ・MEMSデバイスの構造設計経験のある方 ・MEMSデバイスまたは半導体デバイスの作製業務経験のある方 ・MEMSデバイスまたは半導体デバイスの評価業務経験のある方 【尚可】 ・CADを用いた... |
| 勤務地 | 神奈川県 勤務地変更の範囲：本社及び全国の事業場、支社、営業所 |
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| 年収 | 年収:500万～750万程度 月給制：月額280000円 給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇 賞与:業績による 昇給:年1回（成果による） |
| 業務内容 | 【職務概要】 研究開発部門にて、MEMSデバイスの設計・開発業務を担当していただきます。各種アプリケーションからの要求事項をデバイス仕様に反映させ、設計・製造・評価を経て実現可能性、量産可能性を検証することが主なミッションとなります。 ... |
| 求める経験 | 【必須】下記いずれか1つ以上のご経験 1.MEMSデバイスの構造設計業務経験 2.MEMSデバイスまたは半導体デバイスの作製業務経験 3.MEMSデバイスまたは半導体デバイスの評価業務経験 【尚可】 ・有限要素法解析（FEM）... |
| 勤務地 | 神奈川県内 ※お客様先により異なる※プロジェクト先により異なる |
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| 年収 | 年収:400万～600万程度 月給制：月額230000円 給与:230,000円～ ／月 賞与:年2回（6月、12月） 昇給:年1回（4月） |
| 業務内容 | 【職務詳細】 半導体関連装置のマスクブランクス検査装置の保守・メンテナンスをお任せします。マスクブランクスは低膨張ガラス基板の表面に膜を積層したフォトマスクの原板で、半導体製造プロセスで重要な役割を担います。 【働き方】 夜間待機... |
| 求める経験 | 【必須】 ・電気系学科卒業の方もしくは光学系の経験がある方 ・英語中級 ・第一種運転免許普通自動車 【尚可】 ・半導体関連装置のフィールドエンジニア経験 ・中国語スキル |